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以下是含有光刻機的搜尋結果,共22

  • 陸商務部:荷蘭曝光機應公平出口

     美國設下層層關卡嚴堵中國進口最先進的曝光機,致中國難以提升半導體製造實力,中國商務部16日在中荷視訊會議上,對掌握光刻機(曝光機)關鍵廠商艾司摩爾(ASML)的荷蘭喊話,呼籲要在這些問題上秉持公平。

  • 台積叛將爆陸廠殺進7奈米 驚洩5奈米現況

    台積叛將爆陸廠殺進7奈米 驚洩5奈米現況

    中芯國際執行長梁孟松在辭職聲明中透露,已開發完成7奈米技術,明年4月進入風險量產;至於更先進的5奈米和3奈米製程,只要EUV光刻機到來,就可進入全面開發。與此同時,大陸商務部副部長16日在中荷經貿視訊會議中指出,希望荷蘭在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。

  • 陸商務部:希望荷蘭在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場

    陸商務部:希望荷蘭在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場

    大陸澎湃新聞17日報導,據中國商務部網站消息,12月16日下午,商務部副部長、國際貿易談判副代表俞建華與荷蘭外交部外貿與發展合作大臣卡格,以視頻形式共同主持召開中荷經貿混委會第17次會議,就共同關心的中荷、中歐經貿合作議題深入交換意見。俞建華同時希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。中方將與荷方密切合作,落實好兩國領導人共識,推動雙邊經貿合作再上一個新台階。

  • 打破美、日壟斷 陸建成首條ArF光刻膠產線

     在美中科技戰背景下,大陸因無法取得先進的光刻機而使得半導體的發展受到極大限制,不過,近日寧波南大光電材料公司建成大陸首條ArF光刻膠生產線,在半導體領域取得重要進展。

  • 掙脫晶片「卡脖子」 任正非曝最不願看到這一幕

    掙脫晶片「卡脖子」 任正非曝最不願看到這一幕

    美中科技大戰不斷延燒,川普政府對大陸華為祭出最嚴厲的制裁,大陸官方亟欲加快半導體國產化,但仍面臨不少艱鉅的挑戰。對此,大陸中科院及清華、北大等9大名校都對華為表達幫忙的意願,然而,任正非卻最不願意看到這一幕,即所有人都來做光刻機,一旦大陸整個科學界都只盯著眼前的光刻機,很容易誤了國家其他更重要的大事。

  • ASML掛保證開放 陸擬狠搶光刻機 大打科技戰

    ASML掛保證開放 陸擬狠搶光刻機 大打科技戰

    由於EUV(極紫外光刻機)是先進製程必須的關鍵設備,每台造價約1.3億美元(約37億元新台幣),因此成為半導體大廠在先進製程之爭的關鍵資源。最新消息指出,全球光刻機龍頭荷商艾司摩爾(ASML)表示,該公司對向中國出口積體電路光刻機持開放態度,ASML對全球客戶均一視同仁,在法律法規框架下,都將全力支持。這對中國力抗美國科技圍堵戰,或許是一項契機。

  • 陸半導體市場肥沃

    陸半導體市場肥沃

     美國全力打壓大陸半導體產業發展,但可能無法完全如願,從台積電最近公布的營收報告可以推論,至少在中低階半導體製造方面,大陸產業仍有很大的發展空間,肥沃的市場應足以培養自主技術。

  • 中芯遭斷頭!荷廠爆能賣EUV給大陸 竟暗藏魔鬼

    中芯遭斷頭!荷廠爆能賣EUV給大陸 竟暗藏魔鬼

    儘管大陸晶圓代工龍頭中芯國際遭美國制裁,不過中芯設備供應商、荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)表示,不需獲得美國出口許可,就可供應深紫外光刻機(DUV)給大陸,但有一秘密沒說,ASML並未提到,7奈米以下、最先進極紫外光刻機(EUV)出口大陸,是否需要美國批准。

  • 看台積電狂掃全球半數EUV慌了? 爆三星少主親訪ASML拉貨

    看台積電狂掃全球半數EUV慌了? 爆三星少主親訪ASML拉貨

    全球晶圓代工龍頭台積電在7奈米製程取得重大進展後,拉開與競爭對手三星電子在晶圓代工領域的差距,即將發表的蘋果iPhone 12系列手機搭載的A14仿生晶片,採用台積電5奈米製程,都是採用ASML的EUV光刻機台,為了加速研發3奈米製程,預估明年將進口超過50台EUV機台。韓媒報導,三星電子副會長李在鎔日前前往歐洲商談,主要就是要前往位在荷蘭的ASML總部。

  • 從源頭自主 陸首設晶片大學

    從源頭自主 陸首設晶片大學

     美國祭出禁令斷供華為晶片,上月開始生效,但這也逼得大陸自立自強。日前大陸公開宣布將在南京成立一所專門培養晶片人才的「南京集成電路大學」(台灣稱積體電路),大陸評論指出,這根本就是微軟前CEO比爾.蓋茲之前的預言成真:「美國現在的做法就是在逼中國成長,封殺只會讓中國更強,卻讓一些美國人失去高薪工作。」

  • 價值40億!撞到絕對「賠不起的貨車」路上看到閃遠點

    價值40億!撞到絕對「賠不起的貨車」路上看到閃遠點

    有網友近日貼出了一張照片,上面只是單純一台貨車的樣式,但是該名網友卻表示「撞了絕對賠不起」,而也有其他網友出面解釋,這種貨車裡面裝的貨都非常昂貴,根本是「行動GDP」。

  • 陸政策奧援 推中芯追趕台積

    陸政策奧援 推中芯追趕台積

     從中美貿易戰到科技爭端下,大陸力推國內IC晶片行業升溫加速,作為全球第4大晶圓代工廠的中芯國際受到大陸投資者廣泛關注,加上大陸官方祭出重磅IC產業發展政策,中芯國際應可輕取10年免徵所得稅優惠,加上其他優惠政策刺激下,讓中芯國際追趕台積電的腳步與話題再起。

  • 台積電不可缺的後援 EUV競爭戰火燒到周邊設備

    台積電不可缺的後援 EUV競爭戰火燒到周邊設備

    圍繞新一代的半導體製造技術「EUV(極紫外)」,設備企業的競爭日趨激化。東京電子將在2020財年(截至2021年3月)投入創出歷史新高的開發費,Lasertec的訂單額也在過去1年翻了一倍。在EUV相關設備市場,荷蘭的艾司摩爾(ASML)壟斷了核心的光刻機,但在檢測和光源等領域,日本企業的存在感也在提高。 \n \n半導體製造設備全球第3大製造商東京電子社長河合利樹如此表示:「如果EUV得到普及,更高端設備的需求將增加」,2020財年將投入創出歷史新高的1350億日元研發費。 \n \n東京電子的優勢是「塗佈顯影設備(Coater Developer)」。該設備用於在作為半導體材料的矽晶圓上塗覆特殊化學藥液使之顯影。在EUV量産設備領域,該公司的市佔率為100%。本財年的合併銷售額預計達到1.28兆日元。其中的1成以上將用於研究開發,以在EUV的普及階段鞏固領先優勢。 \n \n在每年超過6兆日元的半導體製造設備市場,正在發生世代更迭。 \n \n半導體的電路線寬越微細,性能越高,現在的最尖端産品為5奈米。要將如此細的電路轉印到矽晶圓上,EUV光刻機是不可或缺的。隨著在世界上唯一量産EUV方式的艾司摩爾增加供貨,包括塗佈和光源等周邊設備在內的開發競爭也已拉開序幕。 \n \n世代更迭的象徵是測試設備製造商Lasertec。如果作為電路原版的光掩膜存在缺陷,半導體的不良率將隨之提高。該公司生産支持EUV的測試設備,2019年7月~2020年3月的訂單額增至上年同期的2.2倍,達到658億日元。全年的訂單預計3分之2與EUV相關。 \n \n此外,日本企業之間的激烈交鋒也在發生。在電子束掩膜寫入機領域,東芝旗下的紐富來(NuFlare Technology)在追趕日本電子和IMS NANOFABRICATION(奧地利)的聯盟。焦點是採用26萬束雷射的「Multi-Beam」技術的開發。 \n \n東芝1月擊退發起敵意TOB(公開要約收購)的HOYA,鞏固了對紐富來的控制權。新派遣了開發技術人員等25人,計劃2020年度內供應支持EUV的新一代光刻設備。 \n \n小松子公司、生産雷射源的Gigaphoton(位於栃木縣小山市)正在期待捲土重來。該公司在EUV問世之前,在光刻機的光源領域成為兩強之一。但由於競爭對手被艾司摩爾收購等原因,目前正在失去存在感。Gigaphoton力爭在艾司摩爾推出EUV新一代設備的2022年之前開發出高輸出功率的光源零部件,以奪回市佔率。 \n \n各企業加快EUV設備開發的背景是,韓國三星電子和台積電等展開的微細化競爭。面向5G等高性能半導體的需求旺盛,兩家企業正在爭奪每台超200億日元的艾司摩爾光刻機。在這一過程中,周邊的製造設備企業的商機也在擴大。 \n \n國際半導體設備與材料協會(SEMI)和日本半導體製造裝置協會(SEAJ)的統計顯示,日本造的半導體製造設備的市佔率2019年為31.3%,在過去約20年內徘徊在3成左右。 \n \n在光刻設備領域,此前尼康和佳能曾席捲世界市場,但在與艾司摩爾的競爭中失敗,在EUV開發方面掉隊。在半導體領域,隨著製造流程變得困難,贏家通吃的傾向不斷加強。以EUV為契機的世代更迭還將加速設備企業的優勝劣汰。 \n \n 「大陸市場的尖端設備投資已經停止」,EUV相關零部件企業的負責人唉聲嘆氣。由於荷蘭政府不予批准,艾司摩爾一直無法向大陸出口EUV光刻機。此外,周邊設備和零部件的洽購也處於停止狀態。 \n \n背後存在中美的貿易摩擦。如果無法進口艾司摩爾的設備,大陸的半導體廠商將在微細化競爭中落後。大陸政府提出到2020年半導體自給率達到40%、2025年達到70%的目標,但處於難以實現的局面。很多觀點認為,美國向荷蘭政府施加壓力,將其用作制裁的武器。 \n \n國際半導體設備與材料協會的統計顯示,2019年的半導體製造設備市場規模為597億美元,比2014年增長59%。在此期間提升存在感的是大陸市場,佔世界整體的市佔從2014年的11.6%提高至22.5%。對日本的半導體製造設備企業來説,大陸已成為難以忽視的市場。 \n \nEUV的技術開發難度大,各企業的研發成本都在膨脹。如果市場不再擴大,企業的投資回收將會延後,新技術的開發有可能難以推進。

  • 華為招聘光刻工程師 進軍晶片製造動起來了?

    華為招聘光刻工程師 進軍晶片製造動起來了?

    華為在遭受美國第二輪制裁後,直接被切斷了自研晶片供應鏈,台積電已經確認9月14日後不再為華為供應晶片。如果華為在庫存晶片消耗完之前找到解決辦法,那麼華為大部分業務都將會受到致命影響。昨日(20日),有網友發現,華為技術有限公司已經悄悄的在招聘「光刻工程師」,這或許意味著華為可能打算自己研發晶片製造技術,不依賴第三方供應商。 \n \n實際上,前不久就有消息傳出,華為內部確實提出要選擇全產業鏈模式,進軍更多樣的業務類別以尋求生存空間。 \n \n消息稱,海思仍在擴張,暫不考慮縮減規模,不考慮「散是滿天星」之類的市場傳聞,把人員散落到其他公司的動作,而是在積極尋找代工廠,打造設計製造一體的IDM(整合元件製造廠,晶片設計和晶片製造一體)模式。 \n \n對於華為來說,選擇自建全產業鏈模式是一條最正確但也是最艱難最漫長的道路。目前全球最先進的晶片製程牢牢掌握在台積電、三星等少數公司手裡。而大陸在先進晶片製程領域沒有多少話語權。因此,在如此重要的領域,必須做到自主可控,所以當下最重要的事情就是「補缺」,爭取早日趕上國際先進製程水平。 \n \n不過在華為IDM模式成熟之前,華為還必須有其他方案代替海思自研晶片。華為旗下的海思半導體本來已經可以滿足華為手機80%左右的手機晶片供應,但是因為美國禁令,華為不得不使用第三方晶片。就目前情況來看,聯發科有望成為華為手機晶片最大供應商。

  • 光刻機如印鈔機 艾司摩爾是怎樣崛起成全球唯一

    光刻機如印鈔機 艾司摩爾是怎樣崛起成全球唯一

    在晶片領域,有一樣叫光刻機的設備,不是印鈔機,但卻比印鈔機還珍貴。歷數全球,也只有荷蘭一家叫做艾司摩爾(ASML)的公司集全球高階製造業之大成,一年時間造的出二十台高階設備,台積電與三星每年為此搶破了頭。 \n \n但其實,早在上世紀80年代,艾司摩爾還只是飛利浦旗下的一家合資小公司。全司上下算上老闆31位員工,只能擠在飛利浦總部旁臨時搭起的板房裡辦公。一出門就能看到板房旁邊一隻巨大的垃圾桶。出門銷售,也只能頂著母公司的名義,在對手的映襯下,顯得弱小、可憐,又無助。 \n \n不過說起來,作為半導體行業「皇冠上的明珠」,光刻機的本質其實與投影儀+照相機差不多,以光為刀,將設計好的電路圖投射到矽片之上。在那個晶片製程還停留在幾十奈米的時代,能做光刻機的企業,少說也有數十家,而尼康憑藉著相機時代的積累,在那個日本半導體產業全面崛起的年代,正是當之無愧的巨頭。 \n \n短短四年,就將昔日光刻機大國美國拉下馬,與舊王者GCA平起平坐,拿下三成市場市占。手裡幾家大客戶英特爾、IBM、AMD、德州儀器,每天排隊堵在尼康門口等待最新產品下線的熱情,與如今大家眼巴巴等著艾司摩爾EUV光刻機交貨的迫切並無二致。 \n \n但誰也不曾想,二十年不到,風光對調,作為美國忠實盟友的艾司摩爾一躍翻身,執掌起代工廠的生殺大權,更成為大國博弈之間的關鍵殺招。「如果我們交不出EUV,摩爾定律就會從此停止」,艾司摩爾如是說。 \n \n從市場角度出發,作為上世紀九十年代最大的光刻機巨頭,尼康的衰落,始於那一回157奈米光源乾刻法與193奈米光源濕刻法的技術之爭。 \n \n背後起主導作用的,是由英特爾創始人之一戈登·摩爾(Gordon Moore)提出的一個叫做摩爾定律的產業規範:積體電路上可容納的元器件的數量每隔18至24個月就會增加一倍(相應的晶片製程也會不斷縮小)。而每一次製程前進,也會帶來一次晶片性能性能的飛躍。 \n \n這是對晶片設計的要求,但同時也在要求光刻機的必須領先設計環節一步,交付出相應規格的設備來。 \n \n幾十奈米時代的光刻機,門檻其實並不高,三十多人的艾司摩爾能輕易入局這個行業,連設計晶片的英特爾也可以自己做出幾台嘗嘗鮮,難度左右不過是把買回來的高價零件拼拼湊湊,堆出一台難度比起照相機高深些許的設備。 \n \n尼康與他們不同的是,對手靠的是產業鏈一起發力,而尼康的零件技術全部自己搞定,就像如今的蘋果,晶片、操作系統大包大攬,隨便拿出幾塊鏡片,應付晶片製程是綽綽有餘的。 \n \n但造晶片也好,造光刻機也好,關卡等級其實是指數級別增加的,上世紀90年代,光刻機的光源波長被卡死在193奈米,成為了擺在全產業面前的一道難關。 \n \n雕刻東西,花樣要精細,刀尖就得鋒利,但是要如何把193奈米的光波再「磨」細呢?大半個半導體業界都參與進來,分兩隊人馬躍躍欲試:尼康等公司主張用在前代技術的基礎上,採用157奈米的 F2雷射,走穩健道路。 \n \n新生的EUV LLC聯盟則押注更激進的極紫外技術,用僅有十幾奈米的極紫外光,刻十奈米以下的晶片製程。 \n \n但技術都已經走到這地步,不管哪一種方法,做起來其實都不容易。 \n \n這時候台積電一個叫做林本堅的天才工程師出現了:降低光的波長,光源出發是根本方法,但高中學生都知道,水會降低光的波長——在透鏡和矽片之間加一層水,原有的193奈米激光經過折射,不就直接越過了157奈米的天塹,降低到132奈米了嗎! \n \n林本聰拿著這項「沉浸式光刻」方案,跑遍美國、德國、日本等國,遊說各家半導體巨頭,但都吃了閉門羹。甚至有某公司高層給台積電營運長蔣尚義捎了句狠話,讓林本堅「不要攪局」。 \n \n畢竟這只是理想情況,在精密的機器中加水構建浸潤環境,既要考慮實際性能,又要操心污染。如果為了這一條短期替代方案,耽誤了光源研究,吃力不討好只是其次,被對手反超可就不好看了。 \n \n當時尚是小角色的艾司摩爾決定賭一把,相比之前在傳統乾式微影上的投入,押注浸潤式技術更有可能以小搏大。於是和林本堅一拍即合,僅用一年時間,就在2004年就拚全力趕出了第一台樣機,並先後奪下IBM和台積電等大客戶的訂單。 \n \n尼康晚了半步,很快也就亮出了乾式微影157奈米技術的成品,但畢竟被艾司摩爾搶了頭陣,更何況波長還略落後於對手。等到一年後又完成了對浸潤式技術的追趕,但已經落後就難再追了 \n \n兩千年初踏錯了乾刻濕刻的選擇之前,其實早於1997年,在尼康被EUV LLC排擠在外時,就已經注定了如今光刻機市場一家獨大的結局。 \n \n當年為了嘗試突破193奈米,英特爾更傾向於激進的EUV方案,於是早在1997年,就攢起了一個叫EUV LLC的聯盟。聯盟中的名字個個如雷貫耳:除了英特爾和牽頭的美國能源部以外,還有摩托羅拉、AMD、IBM,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。 \n \n資金到位,技術入場,人才雲集,但偏偏聯盟中的美國光刻機企業SVG、Ultratech早在80年代就被打得七零八落。於是,英特爾想拉來尼康和艾司摩爾一起入伙。但問題在於,這兩家公司,一個來自日本,一個來自荷蘭,都不是本土企業。 \n \n偏偏,美國政府又將EUV技術視為推動本國半導體產業發展的核心技術,並不太希望外國企業參與其中。 \n \n但EUV光刻機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。光源功率要求極高,透鏡和反射鏡系統也極致精密,還需要真空環境,配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。別說是對小國日本與荷蘭,就算是美國,想要一己之力自主突破這項技術,也是癡人說夢。 \n \n為了表現誠意,艾司摩爾同意在美國建立一所工廠和一個研發中心,以此滿足所有美國本土的產能需求。另外,還保證55%的零部件均從美國供應商處採購,並接受定期審查。 \n \n美國能源部最後和艾司摩爾達成了協議,允許其加入EUV LLC,共同參與開發,共享研究成果。6年時間裡,EUV LLC的研發人員發表了數百篇論文,大幅推進了EUV技術的研究進展。 \n \n分享技術只是一方面,其後美國還送給艾司摩爾一份大禮。2009年,美國的Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源,成為艾司摩爾的供應商,更在四年後以25億美元高價直接被併購。這可是光刻機的核心零件,這樣頂尖的技術,全球範圍也不超過三家。 \n \n毫不誇張的說,艾司摩爾雖然是一家荷蘭企業,但崛起的背後,其實是一場地地道道的美國式成功。 \n \n2012年,英特爾連同三星和台積電,三家企業共計投資52.29億歐元,先後入股艾司摩爾,以此獲得優先供貨權,結成緊密的利益共同體。 \n \n終於,在2015年,第一台可量產的EUV樣機正式發佈。當年只要能搶先拿到機器開工,就相當於直接開動了印鈔產線,EUV光刻機也成為目前的主流製程技術。

  • 真要自主研發! 大陸中科院發表5奈米光刻技術

    真要自主研發! 大陸中科院發表5奈米光刻技術

    大陸中國科學院新型5奈米光刻技術上取得了突破,業內人士認為這可能為大陸自主研發的先進光刻機的研究奠定基礎,但大陸在這一領域仍然很落後。 \n \n但是他們強調說,由於仍然存在技術壁壘,大陸離量產這種晶片製造機「仍遙遙無期」。缺乏足夠的資金也給將理論發現轉化為生產能力帶來了障礙。 \n \n據中國科學院蘇州奈米技術與奈米仿生研究所(Sinano)以及國家奈米科學技術中心週四宣布,他們在超高精度雷射光刻技術上取得了重要進展。 \n \n這項新技術打破了雷射直接寫入的傳統限制,使其能夠進行奈米級處理。大陸團隊開發了一種新型三層堆疊薄膜結構超高精度處理基於新型的三層膜結構。採用雙雷射束交疊技術,通過精確控制能量密度及步長,實現了5奈米的特徵線寬。值得注意的是,這是與ASML的EUV極紫外光刻技術完全不同的技術路線。 \n \n除了高精度外,該技術還展示了量產的潛力。雷射直寫技術可以每小時生產多達500,000個特殊的奈米電極。 \n \n該研究結果發表在《奈米快報》上,這是由美國化學學會出版的經同行評審的科學月刊。該論文指出,新的奈米處理技術可以廣泛應用於半導體、光子晶片和微機電系統等領域。 \n \n北京資深行業分析師向立剛週四對《環球時報》表示,這項新技術將使大陸研究人員具備該理論,從而可以嘗試製造國產光刻機。「但是,大陸要縮小與西方先進供應商之間的差距,尤其是ASML,將花費數年的時間。」 \n

  • 等不到EUV設備!中芯嘴硬冷回1句

    等不到EUV設備!中芯嘴硬冷回1句

    中芯國際董事長周子學在路演互動交流時回應EUV光刻機採購和超募資金使用情況。周子學稱,設備採購公司依據相關商業協議進行,不對單一設備的採購情況進行評論。他強調,公司目前量產和主要在研項目暫不需用到EUV光刻機。 \n \n至於這次公司科創板嘗試超募資金安排,周子學稱,對於超募資金公司將按照相應法律法規,用於主營業務,如研發投入或者項目建設。 \n \n周子學也強調,中國大陸積體電路與國際頂尖技術水平仍有一定差距。「就積體電路晶圓代工行業而言,在先進製程這一關鍵指標上,中國大陸企業在生產設備和技術人才等方面與業界龍頭企業還存在一定差距。在積體電路行業面臨全球範圍內充分競爭的背景下,中國大陸企業在與業界龍頭企業競爭的過程中,仍會在未來一段時間內處於相對弱勢的地位。」 \n \n周子學介紹,公司目前主要在研項目12個,包括先進和成熟製程、特色製程的現有項目升級工作和新產品研發項目。邏輯技術平台:14奈米FinFET衍生技術平台開發、N1技術研發、新一代28奈米緊湊加強型低功耗(28HKC)邏輯開發和產業化、22奈米低功耗製程平台、28奈米射頻製程平台。特色技術平台:28奈米高壓顯示驅動製程平台、40奈米高壓顯示驅動製程平台、高性能 \n \nCMOS圖像傳感器技術、嵌入式閃存平台(eFlash)、NOR Flash存儲、NAND Flash存儲、90奈米BCD平台。 \n \n根據中芯國際之前披露的信息,第一代FinFET 14奈米於2019年四季度進入量產,12奈米目前進入客戶導入階段,第二代FinFET仍在研發中。 \n \n周子學認為,中芯國際的競爭劣勢主要有兩點:其一,持續資金投入需求。 \n \n隨著終端市場的快速發展和行業技術的迭代革新,公司需持續拓展產品種類,順應行業發展方向,通過技術升級推動產品結構升級,由此將帶來較大的資金投入壓力。公司需拓展融資渠道,以進一步提高市場佔有率、盈利能力以及可持續發展能力。 \n \n其二,是產能規模瓶頸。經過多年發展,中國大陸積體電路市場持續攀升,現已成為全球最大的積體電路市場。報告期各期,公司的年產能(約當8英吋)分別為5,289,113片、5,393,219片及5,482,475片,尚需進一步提升產能,以抓住市場關鍵機遇,提高市場佔有率並更好地滿足終端市場需求。 \n \n中芯國際本次計劃實施的募集資金投資項目均是圍繞公司主營業務進行的,主要目標是擴大公司現有產能,完善公司產品結構,提升公司研發和競爭能力。 \n \n至於後疫情時代的市場展望以及越來越複雜的國際環境,周子學回應稱,隨著5G、IOT等行業的需求發展,半導體行業需求旺盛。 \n \n半導體產業是全球化的產業,需要全產業鏈的共同努力。中芯國際保持合法合規營運,今年營運目標和擴產計劃不受影響。 \n \n受中芯國際科創板上市提振,中芯國際繼續大漲,午盤漲13.38%,A股多只半導體股滬硅產業、安集科技、中微公司均大幅大漲。

  • 尼康獲利暴跌 相機風光不再 轉型半導體設備

    尼康獲利暴跌 相機風光不再 轉型半導體設備

    當前,全球頂尖的光學企業主要來自日德,如尼康、佳能、蔡司、徠卡等,這些廠商幾乎把持全球相機鏡頭高端市場。就拿尼康來說,旗下擁有豐富的相機產品,深受全球消費者青睞。近年來,隨著智慧手機產業的崛起,越來越強大的照相功能,衝擊了包括尼康在內的眾多相機廠商。你多久沒用相機拍照了? \n \n2020年5月底,尼康發佈了截至2020年3月的業績報告,公司營收下滑16.6%至5910.12億日元。利潤更是暴跌91.8%至65.51億日元。 \n \n從業績報告中還可以瞭解到,上年度尼康相機全球銷量246萬台,大幅縮減33%。鏡頭銷量265萬支,降幅為16%。為了緩解業績下滑帶來的壓力,尼康在近段時間裁員10%共700人,主要是公司位於東南亞地區的員工。 \n \n尼康方面認為,受智慧手機興起影響,全球相機市場快速縮減,再加上今年非常時期的衝擊,預計公司今年的銷售額仍會大幅萎縮,尤其是相機事業恐怕會陷入連續虧損的態勢。因此,進行結構變革措施在所難免,裁員也是可以預料的事。 \n \n公開的資料顯示,尼康(Nikon)創辦於1917年,是日本的一家著名相機製造商。在103年間,積極開展以光學產品的開發和銷售為主的各項事業。目前,在照相機、雙筒望遠鏡、大型顯示器製造、醫療、製造業等領域均取得了不錯的成績。 \n \n在一百多年前,受德國卡爾·蔡司斷供的影響,日本國內光學儀器裝備開始缺貨。在這個背景下,為了實現光學儀器的國產化,三菱方面出錢,組建了「日本光學工業」,即尼康前身。 \n \n背靠三菱這座大山,尼康打造了一支龐大的人才隊伍,經過數年時間的不懈努力,實現了光學玻璃的量產。在之後的發展過程中,迅速將業務延伸至顯微鏡、望遠鏡、相機鏡頭、相機整機、測量儀器等領域,公司規模日漸龐大。 \n \n另一方面,尼康早在50年代就開始了國際化經營,同時在歐美、亞洲等地區設立了50多家集團公司。採取本地化的經營策略,使得公司的產品迅速賣到全球各地,躋身世界一流品牌。旗下產品最主要的有尼克爾相機鏡頭、尼康水下照相機、尼康F系列的135膠卷單眼反光相機、還有尼康D系列的數位單眼反光相機,消費型數碼相機Coolpix系列,以及尼康Z系列數位微單相機。 \n \n尼康不僅在光學領域打造了行業壁壘,成為全球業內的佼佼者。在精密設備領域同樣有著不俗的實力,比如半導體用光刻設備,去年就賣出了45萬台。不過,面板用光刻機卻從71萬台跌至27萬台,下滑非常明顯。 \n \n在相機主業銷售不振的情況下,尼康早已發佈聲明,公司將面臨巨額虧損。可以預見,這家百年巨頭的日子越來越不好過。不過,憑借公司上百年的技術積累,倒下是不可能發生的事。 \n \n有業內人士分析指出:在當前全球相機市場整體下行的趨勢下,尼康可能會逐步轉移經營重心,從相機主業轉向其他領域。當然,這並不代表著放棄該業務。事實上,在高端專業相機領域,還有著相當不錯的市場市占。近兩年,公司也在積極研發相機新品。有可靠消息稱,今年尼康將發佈三款微單新品。

  • 大陸沒有掌握的技術 何止是晶片製造

    大陸沒有掌握的技術 何止是晶片製造

    \n大陸通信產業的核心痛點:「缺晶少魂」的問題,在被美國封鎖之後,顯得格外的嚴重。而大陸也開始明白核心技術靠花錢買不來的,現在大陸經濟發展的下半場重點是實現高品質與核心技術的自主創新。 \n \n除了晶片,大陸還有哪些受制於人的技術呢? \n \n半導體加工設備 \n \n基本上被日本,美國霸佔。目前蝕刻設備精度最高的是日立。比如東麗,帝人的炭纖維,超高精密儀器,數控機床,光柵刻畫機(日立刻畫精度達到10000g/mm,最高),光刻機(ASML)等等,這些是美日嚴格限製出口的。 \n \n一個塊CPU要製造出來,需要很多設備和材料。全球前十大半導體設備生產商中,有美國企業4家,日本企業5家。 \n \n半導體材料 \n \n生產半導體晶片需要19種必須的材料,缺一不可,且大多數材料具備極高的技術壁壘,因此半導體材料企業在半導體行業中佔據著至關重要的地位。 \n \n而日本企業在矽晶圓、合成半導體晶圓、光罩、光刻膠、藥業、靶材料、保護塗膜、導線架、陶瓷板、塑料板、 TAB、 COF、焊線、封裝材料等14中重要材料方面均佔有50%及以上的市占,日本半導體材料行業在全球範圍內長期保持著絕對優勢。全球70%的半導體矽材料,都是由日本信越化學提供。 \n \n電池 \n \n未來是電動車,氫動力,混合動力汽車的世界,其最重要的東西是電池,目前由日韓壟斷。 \n \n但在上游電池材料供應中,日本住友化學,東麗, 昭和電工,三菱化學在純電動汽車EV上游產業鏈有壓倒性的優勢。東麗,住友化學為松下,LG供貨。 \n \n光伏逆變器 \n \n日立與東方電氣集團在華的合資公司東方日立,向大陸乃至全球最大規模水力光伏互補光伏發電站提供上百台高出力高轉換率的光伏逆變器。光伏逆變器是將太陽能電池所發出的直流電逆變為交流電,並承擔系統保護作用的光伏電站關鍵設備之一。 \n \n光學 \n \n世界先進光學玻璃製造商有日本保谷光學Hoya,日本小原光學Ohara,日本住田光學Sumita,德國肖特光學Schott(卡爾·蔡司集團)。 \n \n其中日本住田光學Sumita保有精密模壓而成的光學玻璃的,世界最高折射率,世界最低成形熔點,世界最多品種數量記錄。日本住田光學的光學玻璃無論在製造工藝,還是在產品種類上全面領先其他同行。 \n \n光學領域最重要母機之一的大型衍射光柵刻劃機,全球只有3-4個國家有能力造,日立保有最高刻劃精度10000g/mm,直接影響光學領域的研究。 \n \n世界第一行星探測能力的日本斯巴魯Subaru昴星為世界最大單一主鏡片光學紅外天文望遠鏡,在目前發現的距地球最遙遠的10顆星系中有9個是科學家利用它發現的,其中包括最遠的那顆,並在2012年打破了新銀河的最遠觀測記錄。 \n \n經金氏世界紀錄認定的世界最精密光學天象儀:來自日本五籐光學。當今世界上最先進的光學天象儀能準確投影1億4千萬顆恆星,並且五籐光學和柯尼卡美能達加起來在此領域已握有全球7成左右市占。 \n \n物聯網安全解決方案 \n \n是今後物聯網發展的重點。三菱電機與立命館大學利用大規模積體電路在作動時產生的獨特微細個體差異,創造出目前最先進的IoT(物聯網)安全防護解決方案——lsi指紋id。 \n \n一個國家的稀土消耗量可以判斷一個國家的工業水平,任何高精尖的材料、原件、設備都離不開稀有金屬。 \n \n日本目前是世界第一大稀土消耗國,其稀土冶金水平世界第一。目前的美日都在大力發展物聯網、工業機器人、大數據雲計算、新能源,這些都是今後世界發展的重點,從尖端專利申請我們就可以看出,美日現在到底在做什麼。 \n \n大數據分析的專利目前基本被美國IBM、微軟、日本日立、NTT、富士通壟斷。美日在搶佔物聯網的技術、專利。目前近半日企都開始應用物聯網技術。工業機器人一直都是日本的天下,也是今後第四次工業革命的重點。 \n

  • 從孟晚舟到ASML光刻機 謝金河曝美陸角力關鍵點

    從孟晚舟到ASML光刻機 謝金河曝美陸角力關鍵點

    華為公主孟晚舟從加拿大引渡到美國的聆訊庭已經結束,最晩到4月揭曉結果,財信傳媒董事長謝金河表示,這也是美中雙方從貿易戰到科技冷戰的重要焦點。 \n謝金河在臉書發文指出,如果時間再往前推移,2018年12月1日這天,三件大事一起發生,一個是千人計劃主導者張首晟身亡,一個是孟晚舟在加拿大被拘捕,第三個是ASML的光刻機被燒毀,這三件事齊發,背後大事只有一個,那就是半導體。 \n經過14個月後,孟晩舟再被提訊,ASML也再度成為焦點。最近美國國務院施壓ASML不得把EUV機台賣給大陸,美國駐荷蘭大使也提醒荷蘭當局,某些敏感科技不應該屬於「某些地方」。原來ASML的EUV機台是要出貨給中芯國際,這正是2018年12月1日要出貨給中芯國際的機台,現在ASML能不能出貨給中芯國際,又成美中角力的焦點。 \n謝金河指出,ASML和應用材料是全球兩大半導體設備製造商,但因為ASML掌握先進製程設備EUV,市值遙遙領先應用材料。ASML剛剛發佈去年第四季財報,營收40億歐元,淨利11億歐元,毛利率48.2%,這個EUV機台是半導體進入7奈米、5奈米、3奈米最重要配備,現在一台EUV機台價格喊到1.3億歐元,台積電是ASML最大客戶,今年台積電資本支出160億美元,應用材料與ASML是最大的贏家,而美國關切ASML是不是出貨中芯國際?這個事件正好與孟晚舟引渡連結在一起,華為一定是美中科技冷戰的重中之重。 \n \n

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