台积电2021年资本支出上看250~280亿美元,三星的半导体事业资本支出传出上看300亿美元,业界预期,包括英特尔、SK海力士、美光等大厂亦将调升资本支出。由于半导体大厂2021年资本支出将会集中投资在极紫外光(EUV)的产能建置,为EUV供应链带来强劲需求,包括家登、帆宣、崇越、华立、公准等EUV概念股营运看旺。

半导体市场在2020年面临新冠肺炎疫情及美中贸易战等外在环境影响,但数位转型加速,各半导体大厂同步加快EUV制程量产,并大幅拉高2021年资本支出扩建EUV新产能。除了台积电将2021年资本支出拉升至250~280亿美元,三星传出年度资本支出上看300亿美元,业界预期英特尔、美光、SK海力士会持续加码资本支出。

台积电及三星等半导体大厂均已导入EUV技术并建置全新生产线,带动EUV曝光机强劲出货动能,法人看好极紫外光光罩盒(EUV Pod)供应商家登、EUV机台次系统模组代工厂帆宣、EUV光阻液供应商崇越及华立、EUV曝光机精密零件供应商公准等EUV概念股2021年接单畅旺,订单能见度直达下半年。

微影设备大厂艾司摩尔(ASML)执行长Peter Wennink在法说会中表示,2021年营运展望乐观,同时逻辑及DRAM先进制程持续推进,为2021年EUV设备带来强劲的成长动能。

2020年採用ASML的EUV曝光机共完成2600万片晶圆曝光,其中在2020年第四季的EUV曝光晶圆数量就高达900万片,业界预期2021年第一季就可望突破1,000万片规模。ASML计划2021年发布新一代EUV曝光机NXE: 3600D,可提升生产力达18%,EUV设备在手订单规模已达62亿欧元,预期2021年EUV相关营收规模将较2020年成长30%达58亿欧元。

此外,ASML的EUV曝光机年度产能已提升至50台,次世代高解析度EUV技术研发持续进行,全新Hign-NA规格EUV曝光机预计可在2023年交货予半导体厂风险生产,预期在2025~2026年可协助客户进入量产阶段。

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