国产结构光技术专家鑑微科技,近年来以量测级3D结构光技术提供生产线与设备商优质可靠的3D量测支援,广受业界好评,2024台北国际自动化工业大展,鑑微将继结构光3D视觉后,重磅展出新开发的奈米级3D视觉量测产品-ADM,提供有高速奈米级3D影像需求的客户一个更适用的新选择。
鑑微科技在自动化工业大展重磅发表的量测级3D结构光创新技术-ADM(Adaptive Depth Microscopy,高适应性深度显微术),由本土企业自主开发的创新技术,展现团队在量测级3D结构光解决方案上引领潮流,不断创新突破、精益求精;鑑微的ADM技术整合了白光干涉与共轭焦双光学为一体,为台湾半导体生产线提供高速奈米级3D影像量测创新方案。
鑑微指出,半导体制造与封测制程每隔一段时间就会有新技术问世,需要重新评测相辅相成的AOI光学检测技术。由于Bump尺寸越做越小,间距也越来越密,日益复杂的制程对于每一段的生产工艺精度要求越来严格;连带的必须评估又快又可靠的检测技术,以针对制程中的每一段工序进行把控,避免不良品留到下一阶段,造成生产能量与成本的浪费。半导体市场持续追求更新、更快的3D视觉技术,以有效提升Bump与RDL的制造品质。
鑑微强调,自动化展亮相发表的OM(光学显微镜)级3D视觉技术,专门针对微型Bump、玻璃基板、CPO与光学膜等产品,因新制程推进而日趋重要的检测需求所开发的技术;此一技术可高速地应对镜面、透明物件等结构光技术难以检测的表面轻易完成3D成像;OM级3D视觉技术适用硅晶圆、碳化硅基板乃至玻璃基板的不同情境的检测、量测需求。
ADM依照使用情境、精度需求,可切换白光干涉或是共轭焦光路,在有限的体积内提供使用者更多的光学选择,大幅提高AOI设备的泛用性。
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