验证分析厂三强 营运拚衝高

AI引爆的先进制程强劲需求，国内三大验证分析厂去年营运明显受惠，包括宜特、闳康及汎铨都在AI、HPC及车用需求推升下表现亮眼，三大验证分析厂去年全年营收同步创下歷史新高，业者看好今年在先进制程为半导体成长重心，且高阶应用需求续释出、消费性需求也回温下，市况将持续拉升三大验证分析厂今年营运表现。

宜特去年税后纯益4.82亿，较去年同期增加24.98％，创歷史新高，每股税后纯益6.50元，年增26.21％，创歷史次高。展望2025年，宜特推出五大解决方案，涵盖汽车电子验证、太空环境测试、AI 高速验证、先进制程与封装，以及智慧即时全球可靠度验证，帮助客户缩短产品开发周期，抢占科技浪潮的先机。

宜特在AI高速验证领域专注于高频讯号测试及模拟设计评估，协助AI产品通过验证，缩短上市时程，满足市场对AI运算效能的需求。此外，在先进制程与封装方面，宜特未来将着重在包括CPO（共封装光学模组）、TGV（通孔玻璃基板）、TSV（硅穿孔技术）及2.5D/3D封装等解决方案的开发上，确保高效能运算及光电产品的稳定性与可靠度。

汎铨则指出，在AI相关需求推动下，看好半导体埃米世代、硅光子及CPO 封装新趋势，对于先进制程、先进封装技术及新材料导入，汎铨多项关键检测分析技术具领先优势，预期未来AI及硅光子将是驱动汎铨营运成长二大主要动能，将在2025年及2026年显着发酵，汎铨近日获得台湾及日本「硅光子光损侦测装置」 的发明专利，目前持续进行欧美韩中专利申请流程中，预期未来在硅光子验证领域具优势，进而拉抬营运。

闳康也表示，晶圆代工大厂2奈米先进制程即将在2025年实现量产，相较于上一个制程节点，2奈米制程採用全新的环绕式闸极电晶体（GAAFET）架构，取代3奈米节点所使用的鳍式场效电晶体（FinFET）。新的架构设计可实现更佳的通道控制，大幅提升晶片效能。闳康表示，随着架构的转变以及制程的复杂度增加，对MA和FA服务的需求亦将大幅上升，闳康领先的技术与设备布局，具备领先于业界的检测以及分析能量，因而能持续满足并配合客户的开发的需求。