据知情消息人士指出，韩国SK海力士对旗下一中国大型半导体工厂的改造计画面临危机，主因是美国不希望先进的半导体设备进入中国，让中国有机会藉这些半导体设备强化其军事力量。
《路透》报导，SK海力士原本希望通过该公司旗下的一家半导体工 改造升级计画饮提高记忆体晶片的生产效率。该公司士是世界上最大的动态随机存取记忆体(DRAM)记忆体晶片供应商之一，从智慧手机到资料中心的各个领域都使用这种晶片。这一潜在的挫折可能使SK海力士成为下一家卷进中美地缘政治之争的企业。
3位知情人士表示，SK海力士计划进口荷兰艾司摩尔(ASML)的最新极紫外光(EUV)的光刻机，为无锡厂的一个量产设施进行升级。
报导说，一名白宫高级官员拒绝评论美方是否会允许SK海力士将EUV光刻机带到中国。但这位官员告诉《路透》，拜登政府仍然专注于防止中国利用美国和盟国的技术来发展最先进的半导体制造，因为这些技术将会助力中国军事现代化。
无锡这家工厂对全球电子行业至关重要，因其生产SK海力士约半数的动态随机存取记忆体晶片，占全球总量的15%。任何重大变化都可能对全球记忆体(记忆体)市场产生影响，分析公司IDC称，光是2021年，全球记忆体市场的需求就将增长19%。
一位瞭解SK海力士在中国运营情况的消息人士说，随着2到3年后新型晶片在SK海力士的生产中占据更大份额，该公司将需要EUV光刻机来控制其成本并加速生产。
SK海力士内部的担忧以前没有被报导过。如果这种情况在未来几年内得不到解决，SK海力士可能会在与头号记忆体晶片制造商三星电子和美国美光等对手的竞争中处于不利地位。
2位知情人士称，艾司摩尔EUV光刻机的问题在SK海力士内部引起了高度关注，首席执行官李锡熙（Lee Seok-hee）在7月访问华盛顿时向美方提出这个问题。
SK海力士对此不予置评，它补充说，将根据各种市场环境灵活运作，尽最大努力应对市场和客户的需求，不会有问题。
分析人士称，美国官员可能会认为SK海力士将EUV光刻机引入中国的尝试，与中国公司此前的类似努力没有任何区别。
VLSIresearch的首席执行官哈其逊（Dan Hutcheson）说，海力士左右为难，美国订下的规则可能适用于中国的任何晶片制造业务，无论是外资还是中资控制。「不管谁把EUV光刻机引入中国，都会让中国具备这种能力。一旦它到了那里，你不知道它之后会去哪里。中国人总是可以占有它或者做他们想做的任何事。」
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