半导体生产设备大厂艾司摩尔(ASML)上周宣布,英特尔成为首家下订最先进的高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)微影设备的客户。双方突大动作宣布合作引起市场热议,韩媒则认为英特尔此举是想要降低市场对其晶圆代工技术的质疑。
南韩经济日报报导,英特尔订购EUV曝光设备比台积电3奈米制程的EUV设备更为先进,不少专家认为,英特尔可能会透过这些设备生产2奈米制程晶片,英特尔也在声明中表示,新一代的EUV机台可使晶圆制造速率每小时将超过 200片,是发展先进制程的重要一环。
英特尔与艾司摩尔大动作公开双方合作计画,报导引述市场人士意见指出,英特尔在先进制程的脚步并不稳定,突然宣布合作关系,目的是减少市场对英特尔技术质疑的压力,但最终是否能够如英特尔所愿还有待观察。
此外,由于英特尔成为艾司摩尔最先进制造设备的首位客户,投资研究机构Semiconductor Advisors分析师Robert Maire认为,如果英特尔可以抢先採用这些工具,可能是在摩尔定律的竞赛当中,有机会超车台积电的好机会。
发表意见
中时新闻网对留言系统使用者发布的文字、图片或檔案保有片面修改或移除的权利。当使用者使用本网站留言服务时,表示已详细阅读并完全了解,且同意配合下述规定:
违反上述规定者,中时新闻网有权删除留言,或者直接封锁帐号!请使用者在发言前,务必先阅读留言板规则,谢谢配合。