《半导体》元月营收写第3高 新应材Q1不淡

2003年成立的新应材以面板及半导体光学元件光阻材料起家，2018年转型投入半导体先进制程，聚焦开发良率关键的微影（Lithography）特化材料，目前聚焦半导体先进微影制程、半导体光学元件制程、显示器制程、Micro LED量子点材料等四大发展主轴。

新应材目前主力产品为半导体先进制程光阻周边的表面改质剂（Rinse），为微影制程良率关键材料，未来将持续朝奈米级微影特化材料发展，包括2奈米及未来的1.4奈米制程关键材料，可有效提升先进微影制程终端应用良率。

展望后市，新应材将持续投入半导体微影制程的特化材料开发技术，提供客户高品质的多元产品。目前除了以光阻周边特化材料为发展基础外，已成功开发深紫外光（DUV）光阻，可应用半导体微影制程及光学元件制程，目标成为首家半导体光阻本土供应商。

新应材因应客户需求增加投资扩厂，台南厂二期预期今年完成验证量产，高雄厂二期则预计今年春节后展开试产验证。董事长詹文雄表示，随着规模经济效益显现，既有产品需求增加、新产品稼动率提升降低单位成本，看好将为公司带来下一波成长动能。