永光化學光阻系列 滿足半導體新應用

永光化學副總經理林昭文(左六)與永光電化事業處處長孫哲仁(左五)及團隊合影。圖/李水蓮

永光化學電子化學事業,歷經20多年的研發技術,不僅完整佈局半導體製程G&I-Line光阻產品版圖;推出SiC專用研磨液,並著墨於晶圓級封測與系統級封裝所需之化學增幅型光阻劑、顯影液、研磨液、特殊油墨等一應俱全,以滿足半導體新世代產品應用。

永光化學副總經理林昭文表示,永光化學的電化產品,已具備20nm超潔淨化學品量產能力,同時也是全球6家國際大廠的光電、半導體製程材料合作廠商。2018年永光化學持續推出旗下兩大光阻應用:厚膜封裝光阻EPP 110;關鍵層I-line光阻EPI 630。EPP 110主要可用於電鍍銅,最高可用厚膜=25um,深寬比5,具備業界競爭力。

即使面對大陸紅色供應鏈崛起,永光化學在大陸市場永不缺席。永光化學於20年前進入中國大陸,在既有產品下,持續開發多項高性能材料、建立驗證產線。永光蘇州廠將積極尋找在地生產,透過客製化代工,提高永光化學的競爭優勢。「永光服務創新、材料開發與技術突破,已成兩岸客戶首選。」林昭文補充道。

面對2.5D與3D晶片堆疊的技術演進,永光化學目前著重於封測產業使用之黃光化學品,推出ECA 150化學增幅型光阻劑、ENPI 503負型光阻劑、EPD 56顯影劑,主要針對金凸塊(Gold Bump)、銅柱(Cu Piller)與重佈線製程(RDL)等製程使用。

因應5G、大數據與物聯網趨勢來臨,碳化矽(SiC)半導體功率元件逐漸受到重視,永光不缺席新產品的開發,推出SiC專用研磨液,為新半導體時代來臨做好產品就位。

(工商時報)


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