晶圓代工龍頭台積電下半年全力衝刺5奈米量產,明年還展開3奈米生產線建置,台積電已成為全球擁有最大極紫外光(EUV)產能的半導體大廠,台灣因此成為全球EUV曝光機最大市場。微影設備大廠荷商艾司摩爾(ASML)在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心20日開幕啟用,就近支援台積電及亞太地區客戶。

台積電中科Fab 15廠及竹科Fab 12廠都有建置EUV曝光機設備,主要提供7+奈米及6奈米晶圓代工,南科Fab 18廠是針對5奈米及3奈米打造的超大型晶圓廠(GigaFab),亦是台積電EUV微影全製程廠區。台積電下半年5奈米進入量產,明年開始建置3奈米生產線,對於EUV曝光機需求大增。據了解,台積電Fab 18廠現階段已安裝18台EUV曝光機,成為全球擁有最大EUV產能的半導體廠。

台積電看好5奈米及3奈米等先進製程未來幾年強勁需求,今年資本支出已提高至160~170億美元,代表對持續增加EUV曝光機採購量。EUV設備大廠艾司摩爾為了服務大客戶台積電,並就近支援亞太區其它客戶,選擇在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心。

艾司摩爾全球副總裁暨台灣區總經理陳文光20日在培訓中心開幕典禮指出,2010年艾司摩爾提供第一台EUV微影設備原型機給台積電進行研發工作,為全球微影技術開創新紀元。2017年艾司摩爾交付第一台量產型EUV微影系統給台積電,寫下商用EUV製程技術的新里程。台灣EUV曝光機裝機規模已領先全球,艾司摩爾在南科成立EUV全球技術培訓中心,為台灣半導體產業提供更完整的服務。

艾司摩爾重申看好EUV曝光機台出貨,今年EUV設備產能可支援35台出貨量,明年可望再增加至45~50台。由於晶圓代工廠及IDM廠在7奈米及更先進製程需要大量採用EUV技術完成晶圓光罩曝光製程,DRAM廠也開始導入EUV技術,隨著台積電、三星、英特爾、SK海力士等國際大廠開始量產,法人看好EUV機台次系統模組代工廠帆宣、極紫外光光罩盒(EUV Pod)供應大廠家登等直接受惠,訂單能見度看到年底。

同時,台積電亦藉由乾式EUV光罩潔淨技術的創新,自2018年導入試產迄今,有效減省水、化學品等能資源使用量,大幅縮短光罩保修頻率與時間,除使光罩使用率躍升超過80%,亦延長先進製程EUV光罩壽命,累計創造的改善效益達新台幣20億元。台積電已於今年於Fab 12B廠、Fab 15B廠、Fab 18廠自動化系統導入量產,優化乾式EUV光罩技術可分析與清潔小於50奈米落塵。

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