半導體先進微影技術由浸潤式(immersion)轉向極紫外光(EUV)勢不可擋,包括英特爾、台積電、三星、SK海力士等全球前四大半導體廠已開始全面導入EUV技術並建置全新生產線,第五大廠美光亦傳出加速評估在DRAM製程採用EUV技術,不僅艾司摩爾(ASML)EUV曝光機產能滿載到2022年之後,法人看好家登(3680)、帆宣(6196)、崇越(5434)、翔名(8091)、公準(3178)等EUV概念股接單旺到明年。

在邏輯製程部份,台積電、三星晶圓代工在去年已開始採用EUV技術量產7奈米製程,今年底前兩家業者也開始量產EUV光罩層數倍增的5奈米。英特爾則預期導入EUV的7奈米製程明年進入生產。其中,台積電在EUV布局大幅領先同業,已成為全球擁有最大EUV產能的半導體廠,南科Fab 18A廠將在明年上半年完成月產能達9萬片的5奈米產能建置,Fab 18B廠預期會在2022年量產EUV光罩層逾20層的3奈米。

在DRAM製程的部份,包括三星、SK海力士、美光等三大DRAM廠的EUV競賽已經開跑。三星1Z奈米開始採用EUV技術,今年3月宣布基於EUV的10奈米DDR4出貨逾百萬顆,8月再宣布平澤P2廠導入EUV技術量產16Gb LPDDR5。

SK海力士已評估在1a奈米採用EUV技術,利川M16廠預期明年上半年量產基於EUV的DDR5。美光則加速評估EUV導入時間及製程節點,預期2021年規劃在台灣興建的A5廠可能會建置EUV產線。

全球前五大半導體廠轉向EUV,推升ASML的EUV曝光機接單滿到2022年之後,ASML第二季底在手EUV曝光機訂單已達54台,業界估計今年底有機會上看70台。法人看好EUV機台次系統模組代工廠帆宣、精密零件供應商公準等下半年接單暢旺,訂單能見度看到了明年下半年。

此外,台積電、三星、英特爾等大廠持續擴建EUV產能,且製程微縮至5奈米及3奈米的EUV光罩層數倍數增加,提供EUV光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大,今、明兩年產能均已被大客戶預訂一空,打進EUV Pod表面處理及鍍膜製程的翔名同步受惠。至於EUV產能大幅提高,代理EUV光阻液的崇越接單暢旺,訂單同樣排到明年下半年。

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