晶呈科指出,主要用於3D Nand Flash及先進製程奈米的六氟丁二烯(C4F6)與去光阻液今年均有新產能開出。去光阻液目前第一條288噸量產線3月已完成,持續接單中,目標下半年滿載。

南寶過往一年維持性的資本支出約3億至5億元,今年則擴大至11億~13億元,主因大陸、越南、印度都有新投資計劃。

晶呈科一廠已完成C4F6二級製造設備建置,年產能100噸,今年將陸續出貨貢獻營收;二廠規劃四級製造生產氟氮(F2/N2)也完成。去光阻液接獲包含記憶體、電源管理晶片、車用晶片、晶圓代工業者訂單。

#晶呈 #南寶 #光阻液