擁有業界最先進、全面的光刻工具,英特爾表示,能夠於往後五年持續推進先進製程,超越Intel 18A、邁向新里程碑。延續摩爾定律,High-NA能較目前EUV微縮1.7倍、晶片密度提升2.9倍;並且提供更高的成像對比度,從而減少每次曝光所需的光量,縮短每一層的印製時間,提高晶圓產出。

英特爾規劃於2025年的Intel 18A產品驗證中,以及Intel 14A量產中,同時使用0.33 NA EUV和High-NA EUV,以達到最佳的製程技術平衡與成本效益。英特爾更透露,已計劃購置下一代系統,產能超過每小時200片晶圓。

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