晶圓代工龍頭台積電(2330)在法人說明會中宣布,支援極紫外光(EUV)微影技術的7+奈米將如期在今年第二季進入量產,至於同樣在第二季進入試產的5奈米製程,將會有更多層光罩採用EUV技術。

法人看好打進台積電供應鏈的EUV光罩盒(EUV Pod)的家登(3680)將直接受惠,今年營運看旺。

雖然台積電上半年面臨7奈米產能利用率下滑壓力,但是並不影響支援EUV的7+奈米量產計畫。據了解,華為旗下IC設計廠海思是首家採用7+奈米投片的客戶,所以台積電第二季就會開始量產7+奈米製程。此外,採用EUV技術的5奈米也會在第二季開始試產,台積電總裁暨執行長魏哲家指出,5奈米將會是個重要且生命周期很長的製程節點,明年上半年進入量產的目標不變。

台積電今年開始採用EUV技術量產,法人看好EUV光罩盒供應商家登將直接受惠。事實上,家登EUV光罩傳送盒G/GP Type去年獲得設備大廠艾司摩爾(ASML)認證,在客戶訂單加持下,去年12月合併營收月增36.0%達2.38億元,其中半導體載具業績就達1.43億元,創家登成立以來載具產品線單月歷史新高。

家登去年第四季合併營收季增52.1%達5.55億元,全年合併營收年減6.9%達16.38億元。

家登去年雖然可能出現虧損,但今年展望樂觀,家登表示,看準微影技術先進製程量產階段即將來臨,無論是人工智慧(AI)、物聯網、5G、高效能運算(HPC)等皆仰賴7奈米以下高階製程,家登配合各大半導體廠高階製程腳步發展,搭配ASML的出機進度,家登調配產能即時供貨,站穩未來半導體載具領導廠商地位。

家登新版本的EUV光罩傳送盒G/GP Type協助全球半導體大廠在7奈米以下晶圓製程可以大量製造,透過優異防污染、防缺陷性能,提高客戶製程產品良率。

G/GP Type不僅適用ASML最新曝光機NXE 3400B,還全面通用於過去所有的曝光機機型,現有高端客戶不管在EUV的生產或研究上,家登的EUV光罩盒都能發揮效能。

家登今年EUV光罩盒接單接到手軟,客戶訂單量在2019年急速攀升,搭配中國市場半導體客戶晶圓載具認證通過的訂單效益,第一季營運強勁,第二季訂單能見度高,可望有效拉升載具本業營運獲利,2019年可望創下營運高峰。

(工商時報)

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