台積電、三星、英特爾等半導體巨頭今年開始跨入極紫外光(EUV)微影技術新時代,其中,台積電及三星推出支援EUV技術的7奈米已經進入量產,英特爾採用EUV技術7奈米將在2020年後推出。

在大廠全面搶進情況下,設備大廠艾司摩爾(ASML)EUV曝光機系統出貨暢旺,有信心達成今年30套出貨目標,家登(3680)極紫外光光罩盒(EUV Pod)供不應求,全年產能已被客戶預訂一空。

家登去年前三季都出現虧損,但去年第四季逆轉勝,單季獲利超過前三季虧損幅度,全年合併營收16.35億元,歸屬母公司稅後淨利0.19億元,每股淨利0.27元。家登第一季因為半導體相關光罩盒及傳送盒出貨暢旺,特別是EUV Pod出貨強勁,3月合併營收月增91.5%達1.56億元,較去年同期成長21.5%,第一季合併營收雖因淡季而季減26.0%,但與去年同期相較成長18.3%。

家登表示,今年是半導體產業成長趨緩的一年,家登將主力放在高階製程產品的成果發酵,加上日前參加中國半導體展(SEMICON China)受到客戶廣大迴響,3月營運表現衝破亮眼業績,使得家登第一季不畏外界干擾,營運獲利表現超越往年展獲佳績。

家登今年看好EUV Pod出貨並預期成為營收及獲利成長主要動能。目前全球有能力出貨EUV Pod的業者只有美國英特格(Entegris)及台灣家登,由於EUV製程已是未來先進製程主流,台積電及三星均在今年量產採用EUV微影技術的7奈米製程,隨著兩家大廠的投片量持續拉高,對EUV Pod的需求亦將同步增加,業界預期家登至少可拿到過半市占率。

此外,5奈米及更先進製程亦將大幅提高EUV光罩層採用層數,帶動艾司摩爾EUV曝光機出貨強勁。艾司摩爾在日前法說會中提及,已有客戶在邏輯製程採用NXE:3400B系統量產,下半年將轉進具更高生產效率的NXE:3400C系統,首套設備已經進入生產階段,晶圓吞吐量(throughput)可達每小時170片,將可大大提升EUV產能。艾司摩爾第一季已出貨4套EUV系統,預計今年30套系統出貨目標可望達成。

家登與英特格的專利訴訟雖一審敗訴,但家登表示已提起二審上訴,並已向台灣新北地方法院提存9.7887億元供擔保免為假執行,訴訟案對家登財務及營運無重大影響。家登看好今年EUV Pod出貨,現有產能已供不應求,年底前產能已被客戶預訂一空,今年將持續擴產,以因應EUV技術世代交替帶來的龐大商機。

(工商時報)

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