台積電(2330)宣布,其領先業界導入極紫外光(EUV)微影技術之7奈米強效版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基於台積公司成功的7奈米製程之上,也為明年首季試產6奈米和更先進製程奠定良好基礎。

台積電N7+的量產速度為史上量產速度最快的製程之一,於2019年第二季開始量產,在7奈米製程技術(N7)量產超過一年時間的情況下,N7+良率與N7已相當接近。N7+同時提供了整體效能的提升,N7+的邏輯密度比N7提高15%至20%,同時降低功耗,使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。台積公司亦快速布建產能以滿足多個客戶對於N7+的需求。

台積電表示,N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積公司的6奈米製程技術(N6)將於2020年第一季進入試產,並於年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用,N6的邏輯密度將比N7提高18%,而N6憑藉著與N7完全相容的設計法則,亦可大幅縮短客戶產品上市的時間。

此外,EUV微影技術使台積公司能夠持續推動晶片微縮。台積公司的EUV設備已達成熟生產的實力,EUV設備機台亦達大量生產的目標。

台積電業務開發副總經理張曉強表示,AI和5G的應用為晶片設計開啟了更多的可能,使其得以許多新的方式改善人類生活,台積的客戶充滿了創新及領先的設計理念,需要台積公司的技術和製造能力使其實現;在EUV微影技術上的成功,是台積公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計,亦能使其大量生產的另一個絕佳證明。

(時報資訊)

#公司