全球晶圓代工龍頭台積電今年7月16日的法說會上提到,為了應付客戶對5奈米等先進製程的強烈需求,將今年度資本支出上調至160~170億美元,全球獨家供應極紫外光(EUV)微影光刻設備的荷商半導體設備商艾司摩爾(ASML)斥資1350萬歐元,於南科成立EUV全球技術培訓中心,直接協助台積電在南科18廠的晶片生產,並預計3年內在台灣的研發團隊從280人擴至500人。

ASML表示,將一個新手工程師培育成為技術熟稔、可獨自作業的EUV工程師,需經18個月的訓練。隨著新冠肺炎疫情讓全球差旅工作增添許多限制與不確定性,ASML在台南設立EUV全球技術培訓中心,為台灣ASML與客戶提供了一個相對安全且經濟的培訓方式,有別於過去所有的工程師,都要前往ASML荷蘭總部接受長達數月的培訓。

台積電去年的營運報告提到,該公司以7奈米EUV微影技術的強效版製程(N7+),協助助客戶產品大量進入市場,N7+奠基於台積電成功的7奈米製程之上,N7+也成為台積電史上量產速度最快的製程之一,顯示ASML所提供的EUV設備,成為台積電7奈米製程獲得巨大成功,並甩開與競爭對手的技術差距關鍵。

據digitimes報導,目前台積電光是1台要價1.2億歐元EUV設備,就已經採購30台,約耗費1040億元新台幣的資本支出。若以5奈米、3奈米製程為主的EUV設備,當中使用20多台,隨著2奈米製程投入研發,台積電預計會擴大下單幅度。相較於競爭對手三星電子,目前使用在晶圓代工上的EUV設備不到20台,英特爾更是近年10奈米製程發展受阻,採購量遠遠不及台積電、三星。

在陸美爭奪科技霸權之下,川普政府率先針對華為等大陸科技公司下手,尤其斷絕以半導體生產為主的美企供應鏈,讓北京當局不得不加快半導體自主化的腳步,根據大陸國務院日前發布報告指出,大陸半導體自給率在去年達30%。

連生產半導體的設備出貨給陸企也遭到美方阻撓,ASML要給大陸晶圓代工龍頭中芯國際的光刻設備至今仍無法出貨,導致ASML也只能仰賴台積電、三星電子與英特爾的需求。

ASML今年第2季淨銷售額33.26億歐元、季增35%;淨收入7.51億歐元,季增近1倍,寫下不錯表現,加上台積電產能滿載,預料ASML能靠著台積電的龐大需求維持營運動能,Q3營運能利預估能恢復以往水平,2020年預計將呈現正成長。

(中時新聞網)

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