陸媒引述業內人士消息指出,在新任副董事長蔣尚義(人稱蔣爸)的協助下,中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)進行談判,希望能採購荷商的極紫外光(EUV)設備。

新浪科技報導,中芯國際一直無法從艾司摩爾取得EUV設備,儘管艾司摩爾在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存在顧慮。

EUV(極紫外光)利用波長非常短的光,在矽片上形成數十億個微小結構,構成一個晶片,與舊型設備相較,EUV設備可以生產更小、更快、更強大的晶片。

據了解,中芯國際打算利用EUV設備,來生產7奈米以下製程技術的晶片產品。

中芯國際執行長梁孟松15日在辭職聲明中透露,已開發完成7奈米技術,明年4月進入風險量產;至於更先進的5奈米和3奈米製程,只要EUV光刻機到來,就可進入全面開發。換句話說,有了EUV機台,中芯國際也能進行3奈米晶片的量產。

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