半導體生產設備供應大廠艾司摩爾(ASML),全球獨家供應的極紫外光(EUV)微影設備為各大晶圓代工廠發展先進製程重要關鍵,最新消息指出,ASML南韓京畿道華城建立據點,就近服務三星等韓廠。報導指出,台積電自2017年引進EUV曝光機以來,目前營運著全球最多EUV技術的機台,今年8月,ASML也在矽谷建立大型研發中心和設備測試無塵室,服務英特爾、三星等客戶。

南韓產業通商資源部(The Ministry of Trade Industry and Energy)早在今年5月宣布,ASML未來4年斥資2400億韓圜(約59億元新台幣)於南韓設立EUV再製廠和訓練中心。ASML表示,一個新手工程師培訓成一名技術成熟、可獨立作業的EUV工程師,需要經過18個月的訓練,過往都要前往荷蘭總部培訓,但從去年ASML在南科設立EUV全球技術培訓中心,就此打破慣例。

韓媒《BusinessKorea》報導,ASML 在南韓設立設備維修與工程師培訓中心,預計今年內開工,2024年底完工,到時將有無塵室可培訓,南韓工程師這樣一來工程師就不用前往荷蘭或是台灣培訓,且能就近服務提供設備服務與維修,包括能使用EUV曝光機與深紫外光(DUV)微影設備。

台積電從2017年到現在,引進了80 台 EUV 曝光機,高居全球之冠,也吸引許多半導體客戶青睞下單,目前台積電在5/7奈米製程的營收貢獻已經超過5成,預計3奈米製程延用鰭式場效電晶體(FinFET)架構。台積電先前指出,3 奈米基於EUV技術展現優異的光學能力,與符合預期的晶片良率,以減少曝光機光罩缺陷及製程堆疊誤差,並降低整體成本,2 奈米及更先進製程上將著重於改善極紫外光技術的品質與成本。

相較之下,三星目前擁有的EUV曝光機僅35台,當中還包括用在生產DRAM,甚至連台積電一半都不到,但就在今年7月透露三星3奈米製程正式流片,採用閘極全環電晶體(Gate-all-around,GAA),稍早更透露將在2022年上半年開始量產,在時程稍微領先台積電。記憶體大廠 SK 海力士也宣布,5年投入4.75 兆韓圜(約40億美元)採購 20 台 EUV曝光機,生產新一代DRAM。

至於今年宣布重返晶圓代工業務的英特爾,預計在Intel 4製程導入EUV技術,外媒認為,英特爾取得EUV曝光機數量多寡,將成為先進製程發展關鍵。

三星集團實際領導人、三星電子副會長李在鎔8月假釋出獄後,立即宣布未來3年投入240兆韓圜(約2050億美元) ,鞏固該公司在後疫情時代科技產業的優勢地位,三星在自家的科技論壇也提及,該公司的3奈米製程不會輸給競爭對手、也就是台積電。李在鎔日前也傳出將前往美國,預計談及170億美元的晶圓廠投資案,甚至打算會面高通執行長Cristiano Amon會面,討論半導體供應吃緊狀況,藉此穩固客戶訂單。

ASML於2020 年在台灣南科設立技術培訓中心,斥資1350 萬歐元(約4.74 億元新台幣),提供技術理論課程與無塵室實機教學等多元化培訓內容,將為 ASML 和客戶培育 360 名 EUV 技術工程師。

ASML表示,2010 年提供第一台 EUV 微影設備原型機給台積電開始,全球微影技術就跨入新紀元,並在2017年交付第一台量產型 EUV 微影系統 TWINSCAN NXE:3400 給台積電,讓台灣EUV 裝機規模領先全球,如今在台南成立EUV 全球技術培訓中心,讓ASML的台灣營運與服務項目多樣化,更實現全力支援客戶先進製程開發與量產的承諾。

文章來源:businesskorea
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