晶呈科主產品為C4F8(八氟環丁烷)和C4F6(六氟環丁烷)應用於蝕刻製程,F2N2(氟氣、氮氣混合氣體)用於蝕刻及擴散製程中的清洗氣體;雷射氣體用於黃光製程。首季EPS1.03元。
晶呈科氖混氣市占率已超過 雙位數,並持續擴大中。看好AI帶動半導體先進製程市場, 化工特殊氣體需求同步大增;去光阻液已有12品項可量產;第一條量產線完成,陸續接獲新客戶訂單。
晶呈科表示, 半導體製程有曝光就要有光阻,有光阻就需要去光阻的剝離液,隨著人 工智慧(AI)帶動的半導體晶圓市場大增,去光阻液 商機跟著大增。晶呈去光 阻液不只靠台灣半導體客戶,也有新加坡、美國客戶。
晶呈科竹南總公司一廠除生 產特殊氣體,也從事廢晶圓重生,提供發光二極體 (LED)超大型高解析(TransVivi Pixel)顯示應用螢 幕製程使用的化工原料;二廠也在竹南,生產特殊氣體;三廠位於頭份,正在建廠中。
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