《半導體》元月營收寫第3高 新應材Q1不淡

2003年成立的新應材以面板及半導體光學元件光阻材料起家，2018年轉型投入半導體先進製程，聚焦開發良率關鍵的微影（Lithography）特化材料，目前聚焦半導體先進微影製程、半導體光學元件製程、顯示器製程、Micro LED量子點材料等四大發展主軸。

新應材目前主力產品為半導體先進製程光阻周邊的表面改質劑（Rinse），為微影製程良率關鍵材料，未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包括2奈米及未來的1.4奈米製程關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用良率。

展望後市，新應材將持續投入半導體微影製程的特化材料開發技術，提供客戶高品質的多元產品。目前除了以光阻週邊特化材料為發展基礎外，已成功開發深紫外光（DUV）光阻，可應用半導體微影製程及光學元件製程，目標成為首家半導體光阻本土供應商。

新應材因應客戶需求增加投資擴廠，台南廠二期預期今年完成驗證量產，高雄廠二期則預計今年春節後展開試產驗證。董事長詹文雄表示，隨著規模經濟效益顯現，既有產品需求增加、新產品稼動率提升降低單位成本，看好將為公司帶來下一波成長動能。