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以下是含有極紫外光的搜尋結果,共156

  • 限制ASML對中輸出晶片技術 中國駐荷蘭大使:絕不會嚥下這口氣

    限制ASML對中輸出晶片技術 中國駐荷蘭大使:絕不會嚥下這口氣

    針對荷蘭知名晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)將對中國禁售尖端光刻機,中國駐荷蘭大使談踐接受媒體訪問時表示,他不會猜測中國政府對此事可能採取的反制措施,但「中國絕不會就這麼嚥下這口氣」。

  • 拜登霸凌下 這國含淚吞!驚爆ASML這3款DUV不能賣大陸

    拜登霸凌下 這國含淚吞!驚爆ASML這3款DUV不能賣大陸

    為防堵大陸晶片業崛起,拜登政府積極拉攏日荷圍殺奏效。 荷蘭政府日前證實,預計今年夏季前,對大陸限制出口晶片設備,擴及生產成熟製程晶片的深紫外光(DUV)機台,最近進度曝光,據消息人士透露,將禁止荷商艾司摩爾(ASML)另外三種型號DUV設備賣給大陸。

  • 《科技》應材新電子束量測系統 助晶片製程加速開發

    半導體設備供應商應用材料(Applied Materials)透過推出新電子束(eBeam)量測系統VeritySEM 10,協助晶片製造商加速製程開發、提升大量製造良率,已獲得一流邏輯和記憶體客戶強烈的商業化興趣,過去1年已交付30多套系統。

  • 帆宣2月營收47億 年增逾八成

    帆宣2月營收47億 年增逾八成

     廠務工程供應商帆宣(6196)公告2月合併營收47.29億元,相較去年同期大幅成長85.4%。法人預期,帆宣今年上半年在晶圓大廠工程持續挹注下,合併營收將可望相較去年同期再度成長雙位數水準,寫下歷史同期新高。

  • 大廠3奈米步量產 家登歡呼

    大廠3奈米步量產 家登歡呼

     雖然半導體生產鏈庫存去化持續進行,但先進製程推進時程並未放緩,包括台積電、三星、英特爾等3奈米將逐步進入量產,而關鍵的極紫外光(EUV)曝光機亦需升級至NXE:3600D。

  • 頭條揭密》美荷日半導體管制細目曝光 下一波或拉攏德韓加入

    頭條揭密》美荷日半導體管制細目曝光 下一波或拉攏德韓加入

    美國與日本、荷蘭在1月下旬達成了半導體設備管制協議,協議內容具有高度敏感性。美國智庫戰略與國際研究中心(CSIS)研究員進行深入調查後,協議的內容涉及的項目與技術節點都已非常明確。該項報告還推測,美國下一步可能先把與半導體設備及製造相關的德國與韓國拉進這項多邊協議,甚至於逐步推廣到整個歐盟,形成一項新的半導體多邊出口管制制度。

  • ASML前大陸員工偷了什麼?這「致命機密」外洩:拜登震驚

    ASML前大陸員工偷了什麼?這「致命機密」外洩:拜登震驚

    荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)15日表示,一名大陸前員工涉嫌竊取該公司的科技機密資料,但未具體說明何種資料被盜取。外媒披露,這名員工偷走的資料,是ASML用來儲存其機台技術資訊的軟體系統,其中包含生產先進晶片至關重要的微影設備系統資訊。

  • ASML不賣DUV 陸晶片死路一條?美1漏洞讓北京大爆殺

    ASML不賣DUV 陸晶片死路一條?美1漏洞讓北京大爆殺

    外媒日前報導,荷蘭、日本加入對大陸半導體設備出口管制行列,美日荷三國已達成共識,傳出荷廠艾司摩爾(ASML)同意不出售生產成熟製程晶片的深紫外光(DUV)設備給大陸,但產業分析師認為,若目標是為了打壓大陸先進技術能力,其中還存在不少漏洞。

  • 頭條揭密》美日荷聯手限售晶片設備 中國彎道超車機率如何?

    頭條揭密》美日荷聯手限售晶片設備 中國彎道超車機率如何?

    美日荷終於在日前達成對中國限售半導體設備協議,雖然沒有公布協議細節,但外界都猜測限售的項目應該比先前管制的範圍更大,不少大陸半導體界對此感到憂心忡忡。一些分析人士估計,除了原有的半導體先進製程設備之外,連成熟製程的設備與材料零組件都可能會列入管制。如果真如業界所做最壞的估計,別說相當長時間內無法實現彎道超車,可能連現有較高階的半導體生產線都會難以為繼。

  • 借國內市場突破美日荷晶片封鎖 陸媒:或祭出反國外制裁法反擊

    借國內市場突破美日荷晶片封鎖 陸媒:或祭出反國外制裁法反擊

    美國、日本、荷蘭等3國就限制對中國出口先進晶片製造設備達成協議,引起國際輿論熱議。陸媒引述專家分析稱,封鎖措施只會推動中國決心自行研發,未來要加大對優質晶片企業的投資,可能會祭出《反外國制裁法》進行反擊。中國已有數家光刻機企業與20年左右積累,已形成數個企業集團並投入百億以上資金,在未來3年取得巨大突破並不奇怪。

  • ASML接單燒 概念股營運續衝

    ASML接單燒 概念股營運續衝

     微影設備大廠艾司摩爾(ASML)於日前法人說明會中指出,在手訂單已達400億歐元續創新高,其中以極紫外光(EUV)曝光機設備需求最為強勁,顯示半導體市場景氣雖然可能在今年出現衰退,但包括台積電、英特爾、三星等大廠仍積極擴建先進製程產能。法人看好家登(3680)、中砂(1560)、京鼎(3413)等先進製程資本支出概念股今年營運續看旺。

  • 美荷談判管制對中出口 ASML:2023料對中出口穩定

    荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)執行長韋尼克今天說,美荷政府正在就該公司外銷中國的新限制措施進行談判,但艾司摩爾今年對中國出口可能會與去年維持相同水準。

  • 家登營運續旺 營收估年增25%

    家登(3680)董事長邱銘乾表示,由於美中貿易戰持續,家登晶圓傳載盒在中國市占率持續提升,加上客戶不斷往先進製程推進,推升極紫外光光罩盒(EUV Pod)需求,看好今年營收將維持二位數百分比成長並續創新高紀錄。法人預估家登今年營收年增率將上看25%。

  • 清大研發埃秒極紫外脈衝光 捕捉奈米世界電子運動

    清大研發埃秒極紫外脈衝光 捕捉奈米世界電子運動

    清大電機系副教授陳明彰、核工所副教授林明緯組成的研究團隊,研發出高效率脈衝壓縮技術,成功產生「埃秒極紫外脈衝光」,如同1台「奈米照相機」,可捕捉到最小5奈米的物質在埃秒速率快速移動的清晰影像,成果已申請歐美及台灣專利,並登上國際頂尖期刊《科學進展》(Science Advances)。

  • 訂單暢旺 帆宣11月營收攀峰

    訂單暢旺 帆宣11月營收攀峰

     半導體廠務工程暨設備廠帆宣(6196)公告11月合併營收達50.54億元,衝上單月新高。法人表示,帆宣受惠於客戶在美國設廠工程訂單進入認列高峰,今年合併營收有望大幅成長45%左右,並改寫歷史新高。

  • 頭條揭密》美對中晶片禁運或落空 ASML被迫緊抓中國大客戶

    頭條揭密》美對中晶片禁運或落空 ASML被迫緊抓中國大客戶

    美國通過晶片法案限制全球光刻機巨頭ASML出口極紫外光刻機(EUV)給中國大陸後,中國加碼大量進口技術層次較低的深紫外光刻機(DUV),雖然中國的上海微電子(SMEE)聲稱已完成大陸國產DUV,卻又一邊大量購入ASML製造的同等級光刻機,一邊還指責ASML意欲透過對降價傾銷來打擊中國的光刻機製造業。這糾纏的光刻機大戰論述當中有許多不合理之處,顯然夾雜著美中晶片大戰中各自的策略與計謀。

  • 美叫這國不要賣DUV給大陸!習近平吐一句 恐讓拜登丟臉了

    美叫這國不要賣DUV給大陸!習近平吐一句 恐讓拜登丟臉了

    大陸國家主席習近平日前於印尼峇里島與荷蘭總理呂特(Mark Rutte)會面提到,「反對經貿問題政治化,要維護全球產業供應鏈穩定」;隨後荷蘭外貿部長施賴內馬赫(Liesje Schreinemacher)表示,不會對美國的晶片禁令照單全收,將自行評估。對此,前立委郭正亮在節目《亮點交鋒》中表示,大陸已經超越美國,成為荷廠艾司摩爾(ASML)第3大客戶,荷蘭著眼大局率先表態,可見艾司摩爾DUV光刻機不賣中國大陸是不太可能的。

  • 台積電超殺利器!ASML最強機台飆出天價 200公噸運送大揭密

    台積電超殺利器!ASML最強機台飆出天價 200公噸運送大揭密

    儘管全球經濟環境不佳,衝擊半導體需求,但荷蘭半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)依舊看好長期產業前景。韓媒報導,ASML新一代高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設備,用於2奈米、甚至更小尺寸製程,預計2024年開始交貨,一台要價約3億至3.5億歐元之間(約台幣96.6億至113億元),目前大咖客戶包括台積電、英特爾、三星都已下訂。由於新一代 High-NA EUV曝光機比前一代體積大30%左右,重量超過200 公噸,至少需要三架波音747分批運送。

  • 不甩晶片殲滅戰?ASML瘋狂增產DUV 驚人數量恐嚇死拜登

    不甩晶片殲滅戰?ASML瘋狂增產DUV 驚人數量恐嚇死拜登

    拜登政府上(10)月對大陸祭出最嚴厲晶片禁令,並呼籲日本、荷蘭政府加入相關制裁。知情人士透露,美國將進一步施壓荷商艾司摩爾 (ASML)禁止向大陸銷售用於成熟製程的DUV微影設備,但ASML並未因此放緩生產腳步,仍計畫三年內,產能增加到90台極紫外光(EUV)和 600台深紫外光(DUV)半導體設備。

  • 頭條揭密》美日開發無EUV光刻機技術 ASML將更依賴中國市場

    頭條揭密》美日開發無EUV光刻機技術 ASML將更依賴中國市場

    美國對中國晶片技術限制是近幾年來半導體科技界最受關注的問題,晶片技術禁令涉及層面廣泛,其中最具代表性的就是14nm以上先進工藝與用於生產7nm以上晶片的EUV光刻機。不過,今年日本與美國已各有一家企業研究出不使用EUV光刻機的晶片製造技術,這對中國而言可能為受限的晶片技術開闢了2條通道:一是加速研發無光刻機製造技術,二是新技術出現後,中國有更大的機會在這幾年內獲得先進製程光刻機。

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