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  • 《半導體》與Entegris訴訟,家登提二審上訴

    家登精密(3680)與競爭對手美商英特格Entegris.Inc的專利訴訟案,一審遭判敗訴,公司公布,已就智慧財產法院一審判決提起第二審上訴。 \n 家登公告,Entegris, Inc.針對家登侵犯Entegris, Inc.專利權(授證號:I317967)一事,經智慧財產法院於108年3月22日判決認定,判付家登應給付Entegris, Inc.新台幣9億7,887萬元之不當得利。經家登公司與律師研議後,認智慧財產法院判決內容多所違誤,故於法定期間內依法提起第二審上訴。 \n 家登再度強調,公司營運一切正常,將提存新台幣9億7,887萬元供擔保後免為假執行。提起上訴事宜,對公司之財務業務並無重大影響。 \n \n 家登3月合併營收約為1.56億元,較去年同期成長21.51%,今年第一季營收4.08億元,年增率為18.28%,反應今年高階製程產品銷售力道增溫,第一季營運將有不淡之表現。 \n 針對9.8億元賠償金,家登藉由處分土地,並以轉投資股票等為擔保,免除假執行,維持營運不受影響。同時,家登目前為庫藏股執行期間穩定股價。今早股價開高走高,盤中漲逾1.5元至34元。 \n \n

  • Entegris與經濟部簽署投資意向書

    特用化學原料暨先進科技材料供應商英特格(Entegris)昨(8)日受邀出席經濟部「2018年臺灣全球招商論壇」,分享在台投資布局,為唯一獲邀參與的半導體材料公司。同時,英特格與經濟部簽署投資意向書,著重於研發創新,並結合現階段重大產業政策,以厚植台灣半導體產業實力,期盼共同推動台灣半導體產業的升級與成長。 \n \n經濟部長沈榮津表示,政府聚焦智慧製造、人工智慧與物聯網等新興領域,以提升台灣經濟發展,而前述新興領域的關鍵應用仰賴半導體先進節點技術,再加上半導體產業蔚為台灣重要經濟命脈,非常歡迎英特格繼續深耕台灣,以在地團隊的即時服務,結合多元產品組合,協助台灣半導體產業研發最新技術,維持台灣半導體產業在全球市場的領先地位。 \n \n英特格台灣總經理謝俊安說明,為響應政府帶動台灣產業升級及經濟成長的目標,英特格台灣成立28年以來,持續在台灣投資半導體材料生產所需之廠房設備及銷售服務中心,致力協助台灣半導體產業的發展。 \n \n謝俊安指出,有鑑於台灣半導體廠商邁向下一階段先進、關鍵製程,英特格台灣於去年宣布擴建在新竹的台灣技術研發中心,今年更耗資600萬美元(約新台幣1.8億元),於該中心中導入半導體晶圓製造所需之晶圓檢測設備及其相關設施,此為全球半導體材料供應商中的創舉。這不僅顯示了英特格以台灣作為研發技術核心的先驅,更體現英特格在台灣持續深耕協助半導體產業穩健發展的承諾。 \n \n展望未來,英特格計劃繼續深耕台灣市場。隨著半導體製造商對於化學機械研磨(CMP)過濾的需求日益增加,英特格台灣預計擴大新竹廠的奈米熔噴(NMB)濾芯產品的產線,也會持續以多元產品組合,因應先進製程及關鍵半導體製程在產量、可靠度及性能方面的需求。

  • 《產業》Entegris EUV光罩盒獲ASML認證

    Entegris(英特格)宣布,與ASML密切合作而開發的EUV 1010光罩盒展現卓越的缺陷率性能,使得利用EUV微影技術進行先進技術節點的大量製造成為可能,並已獲得ASML認證。 \n 微電子產業特種化學品和先進材料解決方案領域的領導者Entegris, Inc.(NASDAQ:ENTG)日前發布了下一代EUV 1010光罩盒,用於以極紫外線(EUV)微影技術進行大量IC製造。Entegris強調,EUV 1010是透過與全球最大晶片生產設備製造商之一的ASML密切合作而開發的,已率先成為全世界第一個獲得ASML的認證,可用於NXE:3400B及未來更先進機台上的光罩盒產品。 \n \n 隨著半導體產業開始大量使用EUV微影技術進行先進技術節點的大量製造(HVM),保持EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要高。Entegris的EUV 1010光罩盒已經通過ASML全面認證,可用於他們的最新一代EUV微影機。Entegris的EUV 1010也因此讓客戶能夠順利地使用這最先進的微影製程,來製造出他們產品所需的越來越小的線寬。 \n 晶圓製造商先前已陸續安裝EUV進行試產。台積電(2330)已表示,在7奈米製程第二年,也就是明年就會導入EUV,先進製程5奈米製程將全面採用EUV。競爭對手三星在去年年中傳出急購EUV機台,也同步力拚量產7奈米。 \n 台廠家登(3680)是全球唯二擁有EUV光罩盒量產及出貨能力的傳載載具供應商,其極紫外光光罩盒(EUV Pod)預計下半年出貨將進入成長期。 \n \n

  • Entegris宣布擴建台灣技術研發中心

    半導體材料供應商英特格(Entegris)昨(14)日宣布投資850萬美元,擴建在台灣新竹的台灣技術研發中心(TTC),擴建計畫包含專門開發過濾媒介的微汙染控制實驗室(MCL),同時也是亞洲應用開發實驗室(AADL)遷移後的新址,該實驗室加入全新的微汙染物分析與技術開發能力,將微汙染物、化學物質與過濾實驗室共設一室,有助縮短解決方案週期時間。 \n \n 英特格台灣區總經理謝俊安指出,擴建計畫將擴大中心現有的研發、工業化生產和試產能力,同時建立單一的廠外合作據點,來滿足客戶夥伴對特用化學品、CMP(化學機械研磨)和液體過濾上的需求。此次 850 萬美元投資,主要擴展1000 級無塵室,擴大實驗室空間為 5 倍,同時進行設備升級。 \n \n 另外,英特格也在SEMICON Taiwan展會期間發表多項產品。英特格新推出Integra堰式閥能為超純度大量化學品和 CMP 研磨液應用提升70%流量效能。這些閥是在今年7月推出,係針對半導體製程應用中的腐蝕性化學品所設計。新閥採用創新、單件且免黏著劑的隔膜設計,可直接將隔膜黏附在閥體做動器上,為真空應用省下隔膜分離,提高閥的使用壽命。 \n \n 英特格也針對微影技術推出Oktolex薄膜技術,這項技術可應用在先進的使用點光微影技術上。Oktolex 的薄膜可針對各種化學品的需求,強化各種薄膜原本的攔截機制,過濾重要的光化學汙染物。Oktolex 薄膜將薄膜特性與特定汙染物的吸收機制作匹配,進而可將薄膜的過濾效能最佳化,且不會與化學品的組成產生不良反應,不僅抽吸速度更快,還能減少機台停機時間。 \n \n 英特格也推出採用高階媒介的全新GateKeeper腐蝕性氣體純化器,更有效去除揮發性金屬與濕氣,能為半導體與晶圓製程提供同級最佳的出口純度。這款純化器採用的高階媒介,其特殊設計可同時去除18種不同氣體內的濕氣並捕捉揮發性金屬微粒,有助於提升晶圓產能。 \n \n 英特格微汙染物防治部副總Chris Vroman表示,配管和管線等製程工具的金屬元件所造成的汙染,是腐蝕性氣體內汙染物生成最主要的來源。像是鉻、鐵、錳、鉬和鎳等過渡金屬,還有包括鈉、鈣和鋁等金屬族,都會使CMOS閘極堆疊衰退並縮短承載盒的使用壽命。最新的純化器媒介搭配內部Wafergard氣體過濾器使用下,可有效過濾這些腐蝕性氣體中的汙染物,避免其產能降低。

  • Entegris 推新型VaporSorb化學濾網

     Entegris Inc.(NASDAQ-GS:ENTG)是高要求先進製造環境的提升產量材料與解決方案領導廠商,宣布推出空氣分子污染(AMC)化學濾網 VaporSorb系列的擴充產品。 \n VaporSorb是化學濾網的領導品牌,用於半導體製造關鍵步驟的無塵室環境和製程生產機台。VaporSorb 化學濾網的設計已能以單一過濾器捕捉空氣有機物、鹼和強酸。新型VaporSorb TRK 已添加特殊材質,使其成為第一個不僅能捕捉前三種核心污染物類別,還能捕捉第四類別的化學濾網,也就是定義為弱酸的類別。 \n 針對光微影塗布/曝光機追蹤設計的新型化學濾網,首創「四合一」化學濾網解決方案建立在過去的「三合一」技術上,避免了多重化學濾網的處理。此外,本化學濾網能保持 VaporSorb 領先業界的使用壽命,降低生產機台的停機時間和持有成本。 \n Entegris AMC過濾服務部資深產品行銷經理Joe Wildgoose表示:「現今的黃光製程良率問題可望減輕;解決問題要從處理一個必須處理的污染物類別開始,也就是弱酸。VaporSorb TRK不僅是能處理三種常見主要問題的單一解決方案,還能處理最新關於弱酸性空氣污染物的問題。」 \n VaporSorb化學濾網以獨特的混合材料捕捉空氣分子污染物。藉由添加新的吸附劑來加強該混合材質,以產生新型四合一化學濾網。實測上,終端使用者已證明該化學濾網能夠捕捉所有會污染晶圓和設備的有機物、鹼、強酸和弱酸。

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