搜寻结果
以下是含有制程中的搜寻结果，共02笔
-
陆晶片领域新突破！ 「透视」光刻胶微观行为 可显着减少缺陷
据《科技日报》报导，光刻技术是推动积体电路晶片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描（cryo-electron tomography，cryo-ET）技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观3D结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显着减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然-通讯》。
-
《日本经济新闻》：陆加大研发解决汽车晶片「软肋」
据《日本经济新闻》5日报导，目前中国大陆汽车晶片的国产率仅一成左右，因此中方计划在10年内加大企业研发力度，形成国产替代进口的态势，构建不受美国出口管制影响的国内供应链。报道称，在中国大陆从世界销量最大的「汽车大国」成为世界领先的「汽车强国」的背景下，晶片成为了大陆汽车行业发展的「软肋」。