美国记忆体大厂美光科技,控告晶圆代工大厂联电帮大陆晋华窃取营业机密案,因双方和解,美光撤回告诉,智慧财产法院27日审结,就非告诉乃论部分,改判联电协理戎乐天无罪、台湾美光前经理王永铭、何建廷6月、1年徒刑,各罚金100万元,2人分获缓刑2年、4年;联电公司则改判罚金2000万,缓刑2年。可上诉。

联电表示,对判决表示欣慰,感谢法院依事实公正裁判。联电也深切期望检方尊重法院判决,以及联电与美光公司去年11月达成的全球和解,让该案画下句点。

本案起因何建廷和王永铭从台湾美光公司陆续离职后,带枪投靠联电,并将美光公司制造DRAM晶圆方法、技术、制程、设计等资讯,交给戎乐天,透过联电与晋华公司合作案,将技术移转至大陆。台中地院一审,依营业秘密罪判处戎乐天、王永铭、何建廷4年6月至6年6月不等徒刑;联电则被判罚金1亿元。

案经上诉智财法院二审后,合议庭认为,何、王与美光公司签有保密及智慧财产权合约,知悉公司保护营业秘密相关规范,但2人却为转职利益,将美光公司DRAM制程秘密下载重置在行动硬碟、随身碟内或储存进Google Drive云端备分,将DR25nmS设计规则参数数值泄漏给联电;联电也未尽到防免义务,严重影响美光公司权益。

不过,由于联电和美光达成和解,美光具状表明撤回告诉,且对非告诉乃论罪部分也表示,对从轻量刑没有意见,审酌何、王已认罪,联电也积极谋求补偿,认为3者应知所警惕,无再犯之虞,因此撤销原判,就违反营业秘密部分,改判戎乐天公诉不受理;王永铭判6月徒刑、何建廷判1年徒刑,2人各併科罚金100万,谕知缓刑2年、4年;联电则改判罚金2000万,缓刑2年。

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