限制中国科技发展 美挡ASML部分DUV设备登陆

外媒引述知情人士指出，美国政府希望ASML停止将部分DUV微影设备出口给中国，美国商务部副部长格雷夫斯在5月底、6月初造访荷兰等国时提出该方案。知情人士表示，美国官员此次重点针对较先进的浸润式DUV设备。

目前ASML已无法将最高级的极紫外光（EUV）设备供应给中企，使中国晶圆加工厂商难以发展先进制程，技术无法升级。如今限制范围可能扩大，涵盖次一级的DUV微影设备，颇有打击中国快速成长的汽车、通讯等新兴产业意图。DUV设备广泛被用于加工成熟制程晶片，例如电动车、通讯、电脑、机器人等产品多使用该类晶片，这些也是当前中国发展快速、有望占领制高点的技术产业。

中国晶圆代工龙头中芯国际目前受美国实体清单禁运制裁，虽可以申请许可，但涉及10奈米及以下技术节点的物件被禁止供应给中芯。

但中国其他代工大厂也加快发展脚步，在华虹半导体、积塔半导体等大厂积极採购下，在2022年首季中国罕见成为ASML系统设备最大收入来源，期间占比高达34％来自中国。可能也因此成为美国阻挡DUV设备进入中国的要因之一。

知情人士表示，目前有实力制造浸润式DUV设备还有日本尼康（Nikon），美国也试图对尼康提出类似要求，联手盟友共同防止中国晶片发展。

值得注意的是，中国也积极发展自研微影设备，上海微电子等厂商正持续升级DUV设备的技术。