手机晶片大战如火如荼开打,三大厂精锐尽出、各领风骚,高通、联发科、苹果各自拥护者,皆採用台积电第二代三奈米N3E制程打造,越发考验IC业者自身设计、架构能力。供应链透露,截至目前为主,明年尚未有手机晶片採用2奈米,旗舰级晶片依旧以3奈米制程,儘管为第三代N3P,然而理论速度并未明显提升。
针对该情况,台积电透过先进封装打造另一大获利来源,明、后年由封装业务衝刺营运。
明年的手机旗舰晶片仍採用台积电3奈米制程,不过会从今年N3E提升至N3P制程。依据台积揭露讯息,相对N3E制程N3P在理论速度提升5%,功耗则下降5~10%,电晶体密度提高4%;因此业界预估,明年手机SoC还是有所提升的,但幅度并不会太大。
业者表示,採用3奈米成本为最大考量,今年安卓阵营旗舰机种价格皆有调涨,但市场热度依旧不减,以vivo x200首发来看,销量并未受到影响。
供应链指出,3奈米流片费用约为6.5亿美元,2奈米更加高昂,现阶段仅苹果M系列晶片切入,并搭配SoIC先进封装技术、领衔行业。
台积电董事长暨总裁魏哲家指出,现在仍有非常多客户对2奈米有兴趣,相对3奈米同期需求更多,但他也不讳言Chiplet会成为2奈米的替代方案而减少对2奈米的需求。业界分析,台积电早已预见该情况,因此积极发展先进封装,不只是CoWoS,SoIC、Chiplet小晶片封装,会使台积突破先进制程极限。
先进封装已占台积电营收之7%~9%,计入未来五年将在先进封装上的大幅投入,将成为台积营运第二只脚。法人分析,台积电CoWoS的月产能今年将达到每月3.5~4万片Wafer、明年将成长至8万片,2026年可望达到14~15万片,未来占到3成营收,毛利率同步追上平均水准,有效延续摩尔定律。
业内人士点出,从台积电年报可看出,重大风险从外部竞争移转至地缘政治,这显示进入行业龙头之后的发展,将缺少来自外部强力竞争;追求卓越、超越自己,避免挤牙膏是台积步入下阶段最大阻力。
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