助攻AI分析需求 闳康 北海道实验室启用

台积电日前于法说会中释出乐观展望，预期2奈米节点前两年tape-out数量将超过3奈米及5奈米制程前两年数量，主因智慧型手机与HPC应用推动，会中释出2025年资本支出展望，亦创新高。

闳康表示，随AI快速发展，驱使GPU与ASIC等AI加速器需求激增，根据国际大厂超微（AMD）的预估，估计到2028年时，资料中心AI加速器TAM（整体潜在市场）将达5,000亿美元，2023至2028年间的年复合成长率将超过60％。AI加速器晶片设计复杂，对效能和可靠性要求极高，这也进一步推升了对MA和FA的需求。

闳康积极布局AI加速器领域，并拥有先进的分析技术和设备，例如：穿透式电子显微镜（TEM）、聚焦离子束显微镜（FIB）和二次离子质谱仪（SIMS）等，可以协助客户深入分析AI加速器晶片的材料特性、结构缺陷和失效机制，加速产品开发和量产。

日本近年积极推动半导体復兴，闳康的日本客户也预计2025年4月进入试产，目标是生产2奈米以下的先进晶片，如何快速提升良率将是一大挑战。在先进制程的研发和量产过程中，检测分析能力是制程开发和提升良率的关键因素。

闳康凭藉着在MA和FA领域长期积累之经验，将协助客户快速建置产线制程、分析晶片缺陷、找出良率瓶颈，并提供改善方案。预期先进制程及日本实验室之营收贡献，将持续带动闳康业绩增长。