科技部拟建置研究计画比对系统 严防抄袭、一稿多投

科技部长吴政忠今(7)日赴立法院教文会专案报告。吴政忠在会间指出，科技部每年约收到2万件专题研究计画，为防止抄袭与一稿多投等情况，正研拟设置「专题研究计画申请书比对系统」，最快明年就能用这项系统比对所有案件。此案最快将在1个月内提出初步规画。

科技部生科司近期比对科技部专题研究计画共5028个案件，发现当中40笔资料有相似度区间超过6成的情形，且有80件明显涉及一稿多投，或由不同人申请相同计画，甚至把同一件计画投稿到不同主管单位等情形。

除了申请政府补助的研究计画有类似情况，学术圈也时常传出论文与研究抄袭等学术伦理丑闻案，为杜绝相关情况发生，科技部因此研拟设置「专题研究计画申请书比对系统」。

吴政忠提到，「专题研究计画申请书比对系统」将会在科技部下辖各司使用，主要以人工智慧来进行比对，不过AI科技仍有所限制，因此还会邀请专家参与审查。

此外，吴政忠今日也提到，我国少子化情况严峻，全国科技硕博士生的培育人数与速度，已不够支撑科技业的需求，联发科近日更表达忧心台湾的科技人才培育不足，台积电也频频面对人才遭挖角等挑战，对此将会整合教育部、经济部等相关部会意见，研拟产业人力需求问题。