《半导体》台积电推N4P制程 扩大先进技术领先地位

台积公司持续领先制程技术，藉由N5、N4、N3，以及最新的N4P制程，台积公司提供多样技术选择，协助客户实现产品的功耗、效能、面积以及成本优势。

做为台积公司5奈米家族的第三个主要强化版本，N4P的效能较原先的N5增快11%，也较N4增快6%。相较于N5，N4P的功耗效率提升 22%，电晶体密度增加6%。同时，N4P藉由减少光罩层数来降低制程复杂度且改善晶片的生产周期。

另外，N4P制程技术设计可将基于5奈米制程的产品轻松移转，让客户能够更加善用既有资源，并且为其N5产品提供更快更节能的下一世代产品。

台积公司表示，採用N4P技术生产的首批产品预计于2022年下半年完成产品设计定案。

台积公司业务开发资深副总经理张晓强博士表示，N4P的推出强化了台积公司的先进逻辑半导体技术组合，其中的每项技术皆具备独特的效能、功耗效率，以及成本优势。经过优化的N4P可提供高效能运算（HPC）与行动装置应用一个更强化且先进的技术平台。藉由N5、N4、N3，以及这些先进技术的所有强化版本，其客户将拥有最大的灵活性与最佳技术组合选择，来支援其产品。