ASML布局全球献利器！ 台积电EUV机台量超扯海放三星

半导体生产设备供应大厂艾司摩尔(ASML)，全球独家供应的极紫外光(EUV)微影设备为各大晶圆代工厂发展先进制程重要关键，最新消息指出，ASML南韩京畿道华城建立据点，就近服务三星等韩厂。报导指出，台积电自2017年引进EUV曝光机以来，目前营运着全球最多EUV技术的机台，今年8月，ASML也在硅谷建立大型研发中心和设备测试无尘室，服务英特尔、三星等客户。

南韩产业通商资源部（The Ministry of Trade Industry and Energy）早在今年5月宣布，ASML未来4年斥资2400亿韩圜（约59亿元新台币）于南韩设立EUV再制厂和训练中心。ASML表示，一个新手工程师培训成一名技术成熟、可独立作业的EUV工程师，需要经过18个月的训练，过往都要前往荷兰总部培训，但从去年ASML在南科设立EUV全球技术培训中心，就此打破惯例。

韩媒《BusinessKorea》报导，ASML 在南韩设立设备维修与工程师培训中心，预计今年内开工，2024年底完工，到时将有无尘室可培训，南韩工程师这样一来工程师就不用前往荷兰或是台湾培训，且能就近服务提供设备服务与维修，包括能使用EUV曝光机与深紫外光(DUV)微影设备。

台积电从2017年到现在，引进了80 台 EUV 曝光机，高居全球之冠，也吸引许多半导体客户青睐下单，目前台积电在5/7奈米制程的营收贡献已经超过5成，预计3奈米制程延用鳍式场效电晶体(FinFET)架构。台积电先前指出，3 奈米基于EUV技术展现优异的光学能力，与符合预期的晶片良率，以减少曝光机光罩缺陷及制程堆迭误差，并降低整体成本，2 奈米及更先进制程上将着重于改善极紫外光技术的品质与成本。

相较之下，三星目前拥有的EUV曝光机仅35台，当中还包括用在生产DRAM，甚至连台积电一半都不到，但就在今年7月透露三星3奈米制程正式流片，採用闸极全环电晶体（Gate-all-around，GAA），稍早更透露将在2022年上半年开始量产，在时程稍微领先台积电。记忆体大厂 SK 海力士也宣布，5年投入4.75 兆韩圜(约40亿美元)採购 20 台 EUV曝光机，生产新一代DRAM。

至于今年宣布重返晶圆代工业务的英特尔，预计在Intel 4制程导入EUV技术，外媒认为，英特尔取得EUV曝光机数量多寡，将成为先进制程发展关键。

三星集团实际领导人、三星电子副会长李在镕8月假释出狱后，立即宣布未来3年投入240兆韩圜(约2050亿美元) ，巩固该公司在后疫情时代科技产业的优势地位，三星在自家的科技论坛也提及，该公司的3奈米制程不会输给竞争对手、也就是台积电。李在镕日前也传出将前往美国，预计谈及170亿美元的晶圆厂投资案，甚至打算会面高通执行长Cristiano Amon会面，讨论半导体供应吃紧状况，藉此稳固客户订单。

ASML于2020 年在台湾南科设立技术培训中心，斥资1350 万欧元（约4.74 亿元新台币），提供技术理论课程与无尘室实机教学等多元化培训内容，将为 ASML 和客户培育 360 名 EUV 技术工程师。

ASML表示，2010 年提供第一台 EUV 微影设备原型机给台积电开始，全球微影技术就跨入新纪元，并在2017年交付第一台量产型 EUV 微影系统 TWINSCAN NXE:3400 给台积电，让台湾EUV 装机规模领先全球，如今在台南成立EUV 全球技术培训中心，让ASML的台湾营运与服务项目多样化，更实现全力支援客户先进制程开发与量产的承诺。