据外媒报导,华为公司将于积体电路领域顶级会议-VLSI Symposium 2022(6月12日~17日在夏威夷举行)上,发表其与中科院微电子研究所合作开发的3D DRAM技术,进行各种有关记忆体的演示。
报导称,华为与中科院方面开发了基于铟镓锌氧(IGZO)材料的CAA(Channel-All-Around)构型电晶体,具有出色的温度稳定性和可靠性。
除华为之外,日媒还表示,IBM、三星、英特尔、Meta、史丹佛大学、乔治亚理工学院等都将提出存储领域的新突破。
IT之家报导支出,华为此前已在存储领域进行深度研究,此前就表示要针对数据存储领域关键技术进行突破。
据此前报导,在去年举办的IEDM 2021上,中科院微电子所李泠研究员团队联合华为/海思团队,首次提出了新型垂直环形沟道器件结构(CAA),该结构有效减小了器件面积,且支持多层堆迭,透过将上下两个CAA器件直接相连,每个存储单元的尺寸可减小至4F2,使IGZO-DRAM拥有了密度优势,有望克服传统1T1C-DRAM的微缩挑战。
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