由于3奈米晶片是以GAA架构为主,三星曾表示,与现有FinFET技术的5奈米相比,所需面积最多可减少45%。同时,性能可再提升30%,更能降低多达50%功耗。

从2021年第3季以来,韩国这家全球最大记忆体产品制造商,已陆续跟包括德国科技大厂西门子,以及全球前3大硅智财业者,美国的新思科技(Synopsys)等,一些同属三星先进制程晶圆代工生态系统(SAFE)的晶圆代工客户,提供晶片架构设计服务,与台积电互别苗头意味浓厚。

据悉,全球最大晶圆代工的台积电,计画在2022下半年开始量产3奈米晶片,2奈米则预定在2025年。根据集邦科技(TrendForce)统计,2022年首季,全球晶圆代工市占率,台积电以过半数53.5%傲视群雄,三星则以16.3%在后苦苦相追,并誓言2030年赶上台积电。

至于更先进的2奈米半导体,三星表示,目前尚处于早期开发阶段,计划2025年实现量产目标。5月时,三星指出还要加强晶片业务投资,且把当业界第一为使命。同时,也会在晶圆代工上拉高市占率,计画在韩国打造一个无晶圆厂的生态环境,为全球IC设计业者服务。

Daol投资证券直言,与记忆体晶片只有两种产品DRAM以及NAND不同,高达数千种的非记忆体方面,产品种类以及变化太多,这两者无法相比。因为,记忆体比较单纯,提高效能以及增加量产的难度较低。

根据未来(Mirae)资产证券数据,三星在2017年至2023年期间,资本支出的年复合成长率(CAGR)估计约为7.9%,台积电则是高达30.4%。业内认为,三星要超越台积电,除了不能吝于投资未来外,产品良率也得同步提升才行。

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