俄罗斯科学院发出豪语声称自行研发的光刻机将于2028年问世,可生产出7nm晶片。大陆半导体界人士对此表示,俄罗斯的想法似乎「太过天真」,俄罗斯想在6年内研发出可支持7nm晶片生产的光刻机可行性不高,且晶圆厂也不是光靠光刻机就可生产出晶片。
据《快科技》报导,俄罗斯入侵乌克兰后,国际上对俄罗斯进行多项禁运措施,包括半导体产品与技术,造成俄罗斯晶片短缺。加上美国、英国和欧盟也祭出多项制裁,几乎所有拥有先进晶片制造商都停止与俄罗斯实体合作,专注智慧财产授权的安谋(ARM)公司也无法将他们的技术授权给俄罗斯的晶片设计师。
报导说,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构(Novgorod Strategy Development)发出豪语宣称,俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将在2028年开发出可以生产7nm晶片的光刻机,会跌破所有人眼镜,同时将击败荷兰顶尖光刻机制造商艾斯摩尔(ASML)同类产品。
俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示,全球光刻机领导者ASML近20年来一直致力于EUV 曝光机,目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。
大陆半导体业界人士表示,俄罗斯的想法似乎太过天真,俄罗斯想在6年内研发出可支持7nm晶光刻机可行性不高,且晶圆厂并非光靠光刻机就可生产出晶片,还需要许多设备,而俄罗斯并不生产这些设备。
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