在美国协商多时的压力下,荷兰政府将对先进晶片设备出口到中国进一步设限,可能在今年夏天前实施,恐衝击荷兰晶片设备龙头爱司摩尔(ASML)销售。ASML则指出,新的出口管制涉及最先进的浸入式「深紫外光微影」(DUV)设备。
ASML最新发布声明指出,由于新法规即将出台,ASM将需要申请许可证才能出口最先进的浸入式DUV系统。ASML强调,该项新管制针对「最先进」设备,目前还没接收到有关最先进的定义和资讯,可能是TWINSCAN NXT:2000i及随后推出的浸入式设备受影响。
ASML提到,自2019年底以来,该公司已无法向中国厂商出口极紫外光(EUV)微影设备。针对新禁令,
ASML称,专注于成熟制程的客户,可以使用不太先进的浸入式光刻设备,预估荷兰政府的措施不会影响2023年财务前景,或者对长期前景产生重大影响。
荷兰对外贸易部长Liesje Schreinemacher接受「电讯报」(De Telegraaf)专访时则指出,限制晶片设备出口管制将在今年夏季前落实,他并主张欧盟国家应採取与荷兰一致政策,以展现欧盟的团体性。
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