美国晶片大厂辉达(NVIDIA)执行长黄仁勋日前宣布,联手台积电、新思科技和艾司摩尔(ASML)等半导体厂,推出新软体库「cuLitho」,预计能提升微影技术效率超过40倍,台积电将于6月开始应用。面对「强强联手」来势汹汹,韩媒认为,三星也应积极布局合作伙伴获得支持,才能够与台积电抗衡。
韩媒BusinessKorea指出,25日有外媒报导,台积电已经确定与辉达、新思科技和艾司摩尔合作,加速开发2奈米和更先进代工制程技术。根据合作计画,新思科技、台积电将cuLitho整合至软体、制程及系统中,而艾司摩尔则负责制造和供应EUV设备。
外媒评估,辉达加速运算的技术对台积电2奈米技术发展非常重要,辉达表示,cuLitho能为目前微影技术效能提高40倍以上。黄仁勋说,这种合作关系能增加晶圆厂产能,又能减少碳排放,为发展2奈米或者更先进技术奠定基础。
外媒称,这些顶尖半导体公司的合作,对台积电2奈米及更先进制程的发展有很大帮助。据日经亚洲报导,台积电已经在竹科生产2奈米晶片。
BusinessKorea引述专家说法,认为三星也需要建立类似的合作关系获得支持,以维持三星在与台积电先进晶片技术的竞争。
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