台特化表示，硅乙烷用于化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）制程，为半导体产业进入先进制程时代的关键硅基化合物薄膜的关键性材料，目前已建立全球硅乙烷最大产能单一生产线。本次办理现金增资 9,445 张，预计挂牌股本将提升至 14.77亿元。
台特化强调，今年开发出新产品无水氟化氢（AHF），为先进半导体制程中非常重要的乾式蚀刻与清洁特气原料，主应用于晶圆沉积薄膜蚀刻与机台设备内硅类残留晶体的清洁移除，具有优异的选择率及向性可应用于更先进的制程，目前已送交客户认证中，不仅丰富产品组合，更为营收添加动能。
台特化成立于民国 102 年 3 月 27 日，聚焦半导体特殊气体（SEG, Specialty Electronic Gases）及半导体特用化学材料（SEC, Specialty Electronic Chemicals）制造与销售，截至民国 113 年 6 月底止，实收资本额为新台币 13.82亿元。
台特化认为，台湾是全球最重要的先进半导体生产基地，独创的超高纯度特殊气体合成纯化技术，可同时产出硅乙烷、硅丙烷；在制程设计规划阶段同时考虑节能减碳及环保永续议题，制程水电用量相对于其他竞争者降低 70％以上能耗，且无固态废弃物产生，超前建构碳中和时代的国际竞争力。
此外，台特化自主研发高端的关键特殊气体材料合成纯化制造技术，已建立特气产制技术专业 Know-How，并取得台湾、中国大陆、美国、韩国新型及发明专利，自有智慧财产保护布局完善。台特化的产品发展策 略以持续开发先进蚀刻气体类、前驱体类等产品为主轴，涵盖半导体产业在电晶体生成循环制程所需之多项精密特殊气体。
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