台积电该怕？三星导入最新黑科技 超神级技术曝光

三星为了与台积电竞争大绝尽出，根据《韩国经济日报》报导，三星计画採用最新「背面电轨」（BSPDN，又称「晶背供电」）晶片制造技术，能让2奈米晶片的尺寸，相比传统前端配电网络（PDN）技术缩小17%。

三星代工制程设计套件（PDK）开发团队副总裁Lee Sungjae近期向大眾揭露BSPDN细节，BSPDN相较于传统前端配电网络，可将晶片效能、功率分别提升8%、15%，而且三星预定在2027年量产2奈米晶片时採用BSPDN技术。

BSPDN被称为次世代晶圆代工技术，该技术主要是将电轨置于硅晶圆被面，进而排除电与讯号线的瓶颈，以缩小晶片尺寸。

先进制程竞赛白热化，英特尔则预计今年将BSPDN应用在英特尔20A（相当于2奈米节点）的制程上，该公司称该技术为「PowerVia」。台积电则计画在2026年底左右，对1.6奈米以下制程导入BSPDN。

Lee Sungjae也公布次世代GAA制程的计画及晶片效能，三星将在今年下半年量产基于第二代环绕式闸极（GAA）技术（SF3）的3奈米晶片，并将GAA导入2奈米制程。SF3相比第一代GAA制程，晶片效能和功率提升30%、50%，晶片尺寸亦缩小35%。