汎銓 今年營收有望創高

汎銓科技（6830）為因應未來十年埃米世代製程材料分析商機，旗下高階SAC-TEM Center廠房於2日舉行上梁典禮，此廠房預計今年6月進駐設備，第三季正式營運。汎銓董事長柳紀綸表示，未來營運將以半導體矽光子、AI晶片為最強勁的二大動能，而汎銓在美國、日本及大陸市場帶動下，今年營運增長表現明確，全年營收有機會創新高。

柳紀綸表示，半導體先進製程邁向埃米世代，汎銓強化衝刺「埃米世代製程材料分析」、「矽光子光衰漏光斷光分析」及「美國AI客戶專區」三大業務方針，尤其汎銓在矽光子、AI晶片分析及精密工法技術具領先優勢並取得成果，目前AI客戶更加大檢測分析業務需求，有望帶動汎銓AI晶片暨矽光子相關檢測營收。

柳紀綸表示，高階SAC-TEM Center（球面像差修正穿透電鏡廠區）新廠房2日上梁，但目前規劃今年6月底前就將開始進駐生產設備、8月初開幕啟用。

展望營運，柳紀綸表示，去年下半年營運回升幅度不如預期，所以，去年全年每股稅後純益1.34元，不過，今年全年營運將較去年大幅成長。

柳紀綸進一步指出，今年第一季由於新產能及海外營運據點尚未開始貢獻，預期第一季獲利壓力仍大，整體上半年獲利表現可能相對趨緩，不過，他強調，目前主要產品線中，矽光子和AI晶片是二大主軸，接單情況相當好，再加上目前公司規劃，海外據點中，位於矽谷的美國廠已在進駐設備，預計6月貢獻營收，初期主要承接5奈米以下先進製程相關案件，合作客戶包括日系設備大廠與美系IDM；日本子公司將自今年第三季之後開始貢獻營收；最後在大陸市場方面，今年以來大陸的接單情況也明顯回升。

二大產品線接單旺盛，加上海外市場貢獻，柳紀綸預期，9月後單月營收可望連續創歷史新高，今年全年營收也可望創高，並進一步帶動今年每股稅後純益由於去年的1.34元，挑戰回升至2元以上水準。