一路撑到5奈米！台积电大老超狂技术 蒋爸、张忠谋都佩服

半导体产业成为台湾经济重要支柱，但台湾半导体人才供应相当紧缺，这也使得半导体学院成为解决方案之一，国立清华大学上周举办「国立清华大学半导体研究学院」揭碑仪式，并邀请浸润式微影之父、台积电前研发副总林本坚担任院长一职，林本坚也在受访时分享，当年台积电推进极紫外光(EUV)微影技术的过程。实际上，台积电创办人张忠谋也曾指出，若没有林本坚与其团队，台积电的微影技术不会达到今天规模。

台积电在7奈米制程世代正式导入EUV技术，一举拉开与竞争对手三星电子的技数差距，就连英特尔在2021年宣布启动IDM 2.0战略，重返晶圆代工业务，并在最新制程蓝图上指出，进入Intel 4制程开始导入高数值孔径（High NA）EUV微影技术，显见在5奈米以下制程，EUV技术已经是不得不採用的基本标准。

林本坚也在上周活动提及，英特尔 2002 年与AMD、IBM等企业一同出资成立EUV LLC 联盟，希望共同研发EUV相关设备，导入60、40 奈米制程，但从目前状况来看，除了英特尔之外的半导体企业都已经退出晶圆代工市场，英特尔至今却还没有真正跨入EUV领域。当时台积电也希望加入EUV联盟，但因当初只限定6家厂商，IBM抢走最后一个名额，台积电无缘、只好自己想办法，转研发浸润式（Immersion）微影技术，并在5奈米制程扩大使用，甚至如今还成为全球拥有最多EUV机台的厂商。

林本坚身为推动浸润式微影技术的台积电前研发大将，2002年全球半导体产业发展一路从0.13微米、90奈米到65奈米制程，开始出现发展瓶颈，市场普遍认为波长157 奈米乾式微影技术为下一代重点技术，当时任职台积电的林本坚提出，将回到193奈米波长、改採用以水为介质的浸润式微影技术，此举强化台积电在晶圆代工技术的领导地位，并协助全球半导体产业突破摩尔定律的挑战。

据《商业周刊》先前报导，当时有其他业者已经投入逾十亿美元在乾式微影技术上，林本坚的提议无疑是宣告其他人失败，过去投入的资金也将付诸流水，曾任林本坚长官的台积电前共同营运长蒋尚义也透露，当时有大公司高层表达严重关切，希望林本坚不要出来搅局。

反对方甚至在国际研讨会上时时与台积电针锋相对，质疑以水作为介质将导致污染，水中气泡还会影响曝光过程等。林本坚则是面对质疑，决定更彻底解决问题，并在半年内完成3篇论文、投稿到国际期刊，甚至连还未想出的问题都一併解决，除了对内说服蒋尚义、张忠谋等公司高层，对外也说服艾司摩尔(ASML)、Nikon等半导体生产设备厂商，最终浸润式微影技术取得重大的市场成功纪录，也被视为推动ASML成为半导体设备大厂的重要推手。报导指出，林本坚提及，从张忠谋身上学到，沟通是件相当重要的事情。

蒋尚义1997年接任台积电资深研发副总，就想要找个科学家领导台积电微制像处，最后找上曾在IBM任职的林本坚，一开始就听说他很厉害，没想到之后更有更惊艳的表现，甚至评论，因为林本坚，业界过去耗费逾十亿美元的研发费用像是全部倒入海底，也让蒋尚义、张忠谋都对林本坚大力讚赏。

林本坚2015年退休后隔年在清华大学担任教职，之后受访指出，的确有些大陆半导体公司相挖角他，甚至前长官蒋尚义当时也赴陆担任大陆晶圆代工龙头中芯国际担任要职，林本坚坦言，他当时年纪不小，去那边还要重新适应环境，对他并不适合，还是在台湾就好。

林本坚上周活动受访被问及EUV技术，指出微影技术及产能的投资成本很高，若只能微缩一点点，不见得每个人需要，以中芯国际来说，不一定要用到EUV微影设备，即便无法取得EUV机台，现有设备就可以推进到5奈米制程，并採用多重图形（Multiple patterning）实现5奈米制程量产。

林本坚指出，未来半导体应用愈来愈广，并不是只有微缩才能推进先进晶片技术，应该放在设计适用不同应用的技术，以最低成本达到最好效果，半导体提升效能的技术相当多，这也是未来半导体学院投入研究的重点项目之一。