据美国媒体报导，美国商务部正促请荷兰、德国、韩国和日本再收紧对中国取得半导体科技的限制，除最先进的光刻机之外，还包括所有用于制造先进晶片所需的光阻剂等专用化学药剂与材料。
美国媒体引述知情人士称，美国希望日本与荷兰等盟友採取限制措施，让企业不得向中国出口晶片制造所需的专用化学品，诸如光阻剂（photoresist）等；并也敦促荷兰政府对艾司摩尔（ASML）施压，针对中国客户在今年销售限制之前购买的装置，要求艾司摩尔不再提供服务以及维修。不过，美国此举据称已遭到部分盟友的抵制。
报导说，美国担忧中国将先进晶片及处理器运用于军事上，因此频频对于盟友的限制措施表达关切。据悉，美国商务部官员2月已在东京举行的出口管制会议上提出此议题，而日本及荷兰政府则希望在採取更严厉的行动之前，审慎评估当前限制措施造成的影响。美国商务部官员已在2月于东京举行的出口管制会议上，提出这议题。
针对上述报导，荷兰外交部拒绝发表评论，美国商务部和日本经济产业省代表也未回应置评要求。
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