半导体大厂艾司摩尔ASML推出最新高数值孔径极紫外光EUV曝光机,马上被英特尔採用,但台积电仍在观望。外媒认为此事将是英特尔重拾霸主地位的狭窄破口,如同当年英特尔并未马上抢进第一代EUV机台,而台积电大举投资EUV设备。
美国科技媒体wccftech报导,英特尔打算在18A(1.8奈米)制程中试验ASML的高数值孔径极紫外光EUV技术,甚至考虑直接应用在14A(1.4奈米)的制造流程中。
相较之下,台积电并未跟进,原因可能是考量每台高数值孔径EUV微影机的高昂成本,每台售价高达3.85亿美元(约新台币125.58亿)相当可观。
外媒示警,台积电可能会重蹈英特尔的覆辙,先前英特尔就因为保守的财务政策,推迟大举投资EUV机台的时间点,台积电则在那区间大举投资,一下子就拉开技术差距,收穫甜美果实。
即使如此,外媒也提到,英特尔执行长季辛格(Pat Gelsinger)将逆转胜的关键寄托在最新的EUV机台,其实部分成本是由美国人共同承担,英特尔拿到鉅额晶片法案补助,让英特尔将成本社会化,当然后续成果也受到美国社会高度检视。
发表意见
中时新闻网对留言系统使用者发布的文字、图片或檔案保有片面修改或移除的权利。当使用者使用本网站留言服务时,表示已详细阅读并完全了解,且同意配合下述规定:
违反上述规定者,中时新闻网有权删除留言,或者直接封锁帐号!请使用者在发言前,务必先阅读留言板规则,谢谢配合。