TONiC光学尺 真空环境精准应用

许多高精密产品的制程都必须在真空环境下进行，藉由不同程度的真空技术减少气体分子在制程中对加工品的影响，产品最后在大气环境下使用。典型应用包括显示面板中薄膜和基板之间的精密贴合制程、半导体制程中的薄膜溅镀、晶圆检测等，任何相关的零组件皆必须满足真空环境之要求。

韩国运动平台制造商VAD Instrument（VAD）为了满足其精密制程设备对真空规格的严格要求，採用Renishaw TONiC系列超高真空（UHV）光学尺系统，藉此提升平台的整体精度和稳定性。

在真空环境中使用的光学尺元件皆必须经过特殊设计，包括耐高温、高洁净度，以及减少整体气体量释出等，以应用在真空室需要加热到100°C以上的环境，及避免污染物所释出的气体影响真空度。

VAD主要为客户开发客制化的精密运动平台，包括提供给需要在真空环境下作业的制程设备。目前VAD大部分平台均採用Renishaw TONiC系列光学尺，总裁Song Baek-Kyun也指出：「像显示面板AOI检测设备或半导体制程设备等真空应用，我们会选用更高精度的RELM系列光学尺搭配相容真空的TONiC读头。另外我们开发用于半导体EUV光刻机的膜板检测设备，由于精度要求达到ppm等级，需採用高端的RLE系列雷射尺定位系统，而Renishaw是市场少数可提供稳定效能的雷射尺厂商之一。」

TONiC是Renishaw最多样化的光学尺型号之一，可搭配多款不同特性的尺使用，包括适合在真空环境的应用。而TONiC UHV超高真空光学尺系列，从读头、电缆到尺都必需经过专门设计，真空压力高达10-10托（Torr），读头配置RFI屏蔽线缆，其基本工作原理、规格性能都与在大气压力下使用的标准TONiC型号无异。但是UHV光学尺的读头在设计上消除了气密孔，并且由高洁净的真空相容材料和粘合剂特制而成，以避免对加工产品品质造成损坏。而Renishaw真空型光学尺也获得独立的专业检验机构鑑定，包括残留气体分析（RGA）光谱测试，在整个生产过程中确保在清洁的条件下进行，并有专门设计的包装运输以避免污染。

VAD看好未来真空应用设备的市场需求，特别是半导体和显示面板等精密工业制程。除了积极开发更多相关的制程平台外，在品质管控方面，VAD也採用Renishaw XL-80雷射干涉仪对设备在出厂前进行精度检测，大幅增加客户对其设备效能的信心。」详细瞭解TONiC光学尺系列：www.renishaw.com.tw/tonic。