半导体关键制程设备中的薄膜制程,是晶圆加工基础,镀膜时须考虑压力、流量、温度等多项参数,靠人工调整找到最佳参数,旷日废时,工研院为解决此问题,自主研发「先进半导体薄膜设备智慧制程系统」,领先全球首创虚实整合的数位双生系统,能快速找出参数的黄金组合,目前已获关键终端制造商、系统整合商及设备商採用。

工研院机电所副组长王庆钧表示,当晶圆制造完成后进入加工阶段,会先在晶圆表面镀上薄膜,如果薄膜没有镀好,就会影响最终晶圆的良率,因此镀膜制程极为关键。

王庆钧指镀膜的制程复杂,腔体设备有如「黑盒子」,里面有太多东西在变化,要控制各种化学和物理反应,只有达到非常均匀稳定的状态,才能镀出品质良好的薄膜。

工研院研发的「先进半导体薄膜设备智慧制程系统」,是独创的制程数位化预测技术,具备多重物理关联的分析模型APP,模拟在不同参数下相对应的薄膜品质,预测准确度从过去人为经验调控的不到80%,提升至超过95%的高效能。

工程师只要输入不同参数组合,就能预知结果,不但能大幅缩短调整和试错时间,解决过去业界镀膜时依靠人工经验、耗时及费成本的痛点。

同时,将半导体薄膜制程的调机时间,从过去人工调整时的1周缩短为2小时,新产品开发时间更能从3个月缩短为1个月,将可大幅提升台湾半导体前段设备的自给率。

王庆钧认为,这项技术能为产业带来3大效益,首先是协助台湾半导体产业数位转型,从仰赖人工经验转型为仰赖模拟数据的精准预测,其次是加速半导体设备厂技术升级,提供客户更多附加价值,再则是透过预先模拟,减少制程研发时的材料耗费,并衔接未来半导体数位化制造的净零排放趋势。

此系统可广泛应用在半导体先进制程、化合物半导体、5G无线通讯、micro-LED与IC载板等新兴产业的薄膜制程设备,并获得关键终端制造商、系统整合商及设备商採用,预估可引领半导体制程设备产业逾千亿元产值,持续巩固台湾半导体产业的竞争优势。

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