疑洩核心技術給華為 SK海力士前中國籍員工被抓了

韓聯社報導，韓國晶片巨頭SK海力士的一名中國籍女性員工A某，因涉嫌向中國華為公司洩露有關降低晶片不良率的核心技術資料被捕，目前正在接受審判。

韓國京畿南部警察廳產業技術安全偵查隊28日表示，30多歲的A某涉嫌違反《防止產業技術洩露及保護法》，上個月底被逮捕送檢。A某現已被檢方起訴，正在接受水原地方法院驪州分院的審判。

A某於2013年入職SK海力士，之後一直在負責分析晶片不良的部門工作，2020年至2022年在中國分公司擔任組長，負責企業交易客戶洽談。2022年6月，A某返韓後立即跳槽到華為。

據悉，A某離職前曾用3,000多張A4紙，列印出涉及核心半導體工序問題解決方案的資料。SK海力士禁止員工使用隨身碟設備，並對列印內容、列印人、文件用途等資訊進行詳細記錄和管理。但A某雖留下了列印文件的記錄，但其用途未被SK海力士掌握。警方認為，A某將列印的紙張分批轉移至外部，但A某對相關嫌疑矢口否認。

上述事件發生後，警方接到SK海力士報案，對A某的開了嚴密調查，並於上個月在A某入境後在機場予以逮捕。