台特化表示,矽乙烷用於化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)製程,為半導體產業進入先進製程時代的關鍵矽基化合物薄膜的關鍵性材料,目前已建立全球矽乙烷最大產能單一生產線。本次辦理現金增資 9,445 張,預計掛牌股本將提升至 14.77億元。
台特化強調,今年開發出新產品無水氟化氫(AHF),為先進半導體製程中非常重要的乾式蝕刻與清潔特氣原料,主應用於晶圓沉積薄膜蝕刻與機台設備內矽類殘留晶體的清潔移除,具有優異的選擇率及向性可應用於更先進的製程,目前已送交客戶認證中,不僅豐富產品組合,更為營收添加動能。
台特化成立於民國 102 年 3 月 27 日,聚焦半導體特殊氣體(SEG, Specialty Electronic Gases)及半導體特用化學材料(SEC, Specialty Electronic Chemicals)製造與銷售,截至民國 113 年 6 月底止,實收資本額為新台幣 13.82億元。
台特化認為,台灣是全球最重要的先進半導體生產基地,獨創的超高純度特殊氣體合成純化技術,可同時產出矽乙烷、矽丙烷;在製程設計規劃階段同時考慮節能減碳及環保永續議題,製程水電用量相對於其他競爭者降低 70%以上能耗,且無固態廢棄物產生,超前建構碳中和時代的國際競爭力。
此外,台特化自主研發高端的關鍵特殊氣體材料合成純化製造技術,已建立特氣產製技術專業 Know-How,並取得台灣、中國大陸、美國、韓國新型及發明專利,自有智慧財產保護佈局完善。台特化的產品發展策 略以持續開發先進蝕刻氣體類、前驅體類等產品為主軸,涵蓋半導體產業在電晶體生成循環製程所需之多項精密特殊氣體。
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